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平成19年度 SPring-8 重点産業利用課題成果報告書(2007B)
目次

1. はじめに
2. 公募の内容
3. 成果公開の考え方
4. 実施の経緯と流れ
5. 結果
6. 施策の民間企業への波及効果
7. 課題報告書

はじめに

 SPring-8を含む先端大型研究施設における産業利用の更なる促進を目的に、 平成17年度(2005B期)より文部科学省のプログラムとしてSPring-8戦略活用プログラムが実施されて支援体制の整備が進み、 利用実績も増加すると共に産業利用推進室の活動も軌道に乗っている。 今後、継続的に産業界での活用を推進し、一層の成果を生み出すため、 平成19年度(2007A期)以降、SPring-8における重点研究課題1 として産業利用領域を指定している。 これは、ここで中断することなく継続的に支援活動を推進する趣旨である。
 また、我が国の科学技術政策の柱となる第3期科学技術基本計画の「社会・国民に支持され、成果を還元する科学技術」の中で、 科学技術の成果をイノベーションを通じて社会に還元する努力を強化することが謳われている。 SPring-8では大学法人、独立行政法人、公的試験研究機関などの公的部門と民間企業という枠を越えた産官学連携の推進と、 それに基づいた産業利用の推進と成果の社会への還元が期待されている。 そこで、産業界にとって有効な利用手法の開発が産官学連携により積極的に展開されるとの観点から、 「重点産業利用課題」では民間企業のみならず、大学等の公的部門からの応募も受け入れるものとした。

公募の内容
  1. 公募の分類
     本プログラムで募集する課題は「新規利用者」、「新領域」、「産業基盤共通」と「先端技術開発」の4つに分類している。
     「新規利用者」とは、申請代表者が、これまで、一般課題への応募などを含め、SPring-8を利用したことのない利用者を指している。 但し、事業規模が相当程度大きく事業範囲が多岐に及ぶ企業で、これらの企業が既に利用している場合には、 既に利用している事業分野とは異なる新規分野からの新たなユーザーであれば、「新規利用者」として認めている。
     「新領域」とは、申請者の利用経験に関係なく、これまでSPring-8で実施されたことがない産業領域、 あるいは、近年開発された新手法を用いることによって新たな展開が可能になる産業領域を指している。 新領域の例を下記に示しているが、これ以外でも新規性が認められる研究領域であれば、新領域の対象になる。

       ○コンクリート等建築資材⇒三次元内部構造をX線CTによる撮影
       ○ヘルスケア⇒毛髪や皮膚の構造をX線回折・散乱及び透視画像で解析
       ○医薬品原薬⇒粉末X線回折による構造解析
       ○硬X線光電子分光法⇒薄膜材料の内部界面の状態解析
       ○環境負荷物質微量分析⇒大気・水などの重金属汚染物質の化学状態
       ○耐腐食構造材⇒金属材料の表層やサビの構造・状態分析
       ○高密度記録装置⇒DVD、HDD等の新規記録材料の薄膜構造・状態分析


    1 重点研究課題は、国の科学技術・学術審議会研究計画・評価分科会研究評価部会SPring-8ワーキンググループが 平成13年9月から約1年かけて実施した「大型放射光施設(SPring-8)に関する中間評価」において まとめた現状評価と提言を受けて、(財)高輝度光科学研究センター(JASRI)が SPring-8におけるより一層の成果創出を目指して利用研究への戦略的な観点の導入を図るものである。

     「産業基盤共通」とは、それぞれの産業分野に共通する課題を解決する目的、 あるいは産業利用に有効な手法の共同開発を目的として、複数の企業を含むグループが一体となって取り組むもので、 新計測技術の確立、共通課題のデータベース化等を図る研究を指している。 申請代表者が複数の企業を含むグループを取りまとめて、1つの課題として申請する。 ここで言う「複数の企業」とは、それぞれ参加する企業が同等かつ独立に成果を利用できる関係にあることを想定している。 したがって、産官学連携の研究グループによる利用の場合には、学と官は「複数の企業」としてカウントされない。
     「先端技術開発」とは、ユーザーが実施するイノベーション型の技術開発課題で、 成果の企業業績への貢献、あるいは社会還元を目指した研究を指している。

  2. 公募の回数
     BL19B2(産業利用T)、BL14B2(産業利用U)、BL46XU(R&D)の3本のビームラインは、 2007B期から課題公募を2回に分けて実施している。
     BL19B2(産業利用T)、BL14B2(産業利用U)、BL46XU(R&D)を除く共用ビームラインのうち、 重点産業利用課題にビームタイムを割り当てた対象ビームラインでは、これまで通り、2007B期の課題公募は1回である。

  3. 1年課題
     2007B期の第2回公募では、2007B期から始まり2008A期にもビームタイムを配分する1年課題を募集している。 但し、対象とするのはBL14B2とBL19B2のビームラインであり、 公募の分類は、「新領域」、「産業基盤共通」、「先端技術開発」に限っている。
成果公開の考え方

SPring-8を利用して得られた解析結果及び成果は、以下の利用報告書に取りまとめて提出してもらう。

  1. 利用報告書Experiment Report(英文または和文)
    利用終了日から60日以内にオンライン提出。
  2. 重点産業利用課題報告書(和文)
    課題採択後に利用業務部より送付される文書に記載されている締切日までに提出。 なお、提出方法は「電子データ(原則としてMSワード)」を電子メールまたは郵送で所定の宛先に提出。

 上記の2007B期の報告書のうち「利用報告書Experiment Report」は2007B期終了後60日目から2週間後にWeb公開。 「重点産業利用課題報告書」は印刷公表とする。ただし、提出した上記2つの報告書に関して、 利用者が特許取得などの理由により公開の延期を希望し、所定の手続きにより認められた場合には、 上記2つの報告書共に、公開を最大2年間延期することができる(2つの報告書自体は、締切日までに必ず提出してもらう)。 公開延期期間満了時には、公開延期理由の結果・成果の報告をしてもらう。

実施の経緯と流れ
  1. 重点領域の指定
     「重点産業利用課題」が領域指定型の重点研究課題として、平成19年1月26日に重点領域推進委員会で指定を受けた。 これにより、重点産業利用課題は、領域指定型の重点研究課題(公募)として扱われる。
  2. 課題選定
     課題の選考は、学識経験者、産業界等の有識者から構成される「利用研究課題審査委員会」 (以下「課題審査委員会」という。)により実施される。課題審査委員会は、 「重点産業利用領域」として領域指定された趣旨に照らして優秀と認められる課題を選定する。
     審査は非公開で行われるが、申請課題との利害関係者は当該課題の審査から排除される。 また、検討会および選定委員会の委員は、委員として取得した一切の情報を、 委員の職にある期間だけでなくその職を退いた後も第三者に漏洩しないこと、 情報を善良な管理者の注意義務をもって管理すること等の秘密保持を遵守することが義務付けられている。
  3. 審査の手順
     審査は以下の手順により実施される。
    1. 形式審査
      提出された申請書類について、応募の要件を満たしているかについて審査する。 なお、応募の要件を満たしていないものは、以降の審査の対象から除外される場合がある。
    2. 書類審査
      課題審査委員会の下に設置する産業利用分科会により、書類審査を実施する。
    3. 最終審査
      書類審査における評価を踏まえ、課題審査委員会において審査を実施し採択課題を決定する。
  4. 審査の観点
     審査(形式審査を除く)は、以下の観点に重点を置いて実施される。
    1. 科学技術における先端性を有すること
    2. 産業利用上の成果創出に資すること
    3. 課題分類の趣旨に合致すること
    4. 研究手段としてのSPring-8の必要性
    5. 実験内容の技術的な実施可能性
    6. 実験内容の安全性
  5. 利用者支援
     コーディネーター並びに産業利用支援グループが中心となり、課題毎に担当者をおき、 ビームライン担当者の協力の下、全所的に利用者支援を実施した。支援の内容は、重点分野における実験環境の整備、 コーディネーター及びスタッフによる実験企画・準備、実験実施、実験解析に至る技術支援などからなる。
  6. 利用実験
     平成19年9月〜平成20年2月(2007B期)に実施された利用実験課題である。
  7. 報告
     平成20年9月18日〜19日の第5回SPring-8産業利用報告会において、平成19年度2007B期の重点産業利用課題の成果報告を実施する。 当日のプログラム等については後日SPring-8ホームページ上に掲載予定である。
結果

以下に平成19年度2007B期の重点産業利用課題の応募・採択結果についてまとめる。

  1. 応募・採択結果
    表1 募集時期及び機関別応募・採択結果
    募集時期 機関分類 応募数 採択数 採択率(%)
    第1回募集 官学 28 17 60.7
    産業界 48 37 77.1
    第2回募集 官学 22 20 90.9
    産業界 32 27 84.4

  2. 分類
    表2 募集時期及び領域別・機関別採択結果
    募集時期 領域分類 産業界 官学 産官学合計
    第1回募集 産業基盤共通 0 3 3
    新規利用者 5 0 5
    新領域 12 7 19
    先端技術開発 20 7 27
    第2回募集 産業基盤共通 2 3 5
    新規利用者 3 2 5
    新領域 6 5 11
    先端技術開発 16 10 26

  3. 1年課題の応募採択結果
    (但し、下記の件数は、表1及び表2に含まれる数である)
     2007B期第2回募集の際に実施した1年課題の応募件数は7件(官学:3件、産業界:4件)である。 そのうち、4件(官学:1件、産業界:3件)が1年課題として採択され、 2件(官学:1件、産業界:1件)が通常課題(2007B期のみビームタイムを配分)として採択された。 採択結果を領域別に分類すると、産業基盤:2件、新領域:1件、先端技術開発:1件になる。
  4. 利用報告書の公開日延期
     2007B期で実施した課題について利用報告書公開日延期申請が提出された課題の内訳は次の通りである。
    ○公開日延長許可:18課題
     理由内訳(複数回答有り)
      a.知的財産権の取得のため:15課題
      b.事業への適用のため:4課題(2課題共にaと重複、内、1課題はcと重複)
      c.その他の理由:4課題(内、2課題はaと重複、また、1課題はbと重複)
    ○公開日延長不許可:なし
     下記の表3は、公開日延期許可された課題を分野別に分類した結果を示す。

    表3 分野別公開日延期許可課題
    分野 課題件数
    エレクトロニクス 6
    環境・エネルギー 4
    素材(金属・高分子等) 5
    製薬・生活用品 2
    その他 1
    合計 18

  5. 産官学の動向
    1. 研究機関
       2006年度末までの2年間実施した「先端大型研究施設戦略活用プログラム」では、 産業界からの新規利用者を優先させるという、極めて直接的な産業利用促進施策であった。 これに対して、本プログラムでは、産業界にとって有効な利用手法の開発が産官学連携により積極的に展開されるとの観点から、 民間企業のみならず、大学等の公的部門からの応募も受け入れることにした。 その結果、表1に示す通り、2007B期においても2007A期と同様に官学から3割を越える応募・採択課題があった。 この内訳は、工学系大学からの応募・採択が9割以上を占めており、本プログラムの方針に合致した結果となっている。
    2. 産業基盤共通
       本プログラムに於いて、導入した「産業基盤共通」の課題は、8課題が採択され、 そのうちの6課題は申請代表者が官学の研究機関である。この結果は2007A期の同様の傾向であり、 本プログラムで意図している産官学連携の推進の観点から好ましい結果である。
    3. 新規利用者
       今回初めて採択された新規の課題、即ち新規利用者の課題は10課題であり、2007A期と同様、 依然として新規利用者も一定の割合を保っている。その一方で、不採択となった新規利用者の課題も7課題であり、未 だ利用していない民間企業もあることから、新規利用者に対して利用相談をはじめとしたきめ細かい取り組みを継続する必要がある。
    4. 分野別分類
       図1は、申請代表者の申告に基づいて分類した分野別採択課題数を2007A期と2007B期を比較して示している。 2007A,2007B期共に産業界及び官学とも、エレクトロニクス分野の課題が多く、 次いで素材(金属、高分子等)分野の課題と続いていることから、この2大分野に於いて、 SPring-8の利用技術が極めて有用であることを示している。

      図1 2007A期と2007B期の分野別採択課題数
    5. 公募回数
       BL19B2(産業利用T)、BL14B2(産業利用U)、BL46XU(R&D)の3本のビームラインでは 2007B期から課題公募を2回に分けて実施した。但し、上記3本のビームラインを除いて、 重点産業利用課題のビームタイム配分枠をもつビームラインでは、これまで通り1回の課題募集である。 図2は、2007A期(1回募集)と2007B期(2回募集)での重点産業利用課題応募・採択状況を示している。 2007A、2007B両期を単純には比較できないものの、2007B期は2007A期に比べて応募数が増加していることから、 2回募集は一定の効果があることが分かる。
    施策の民間企業への波及効果

     図3(a)は、2007B期における共同利用研究実施課題のうち、 実験責任者が民間企業の研究者である課題数の割合を示したものである。 図に示す通り、民間企業の課題数は、2007A期と同様に共同利用研究実施課題全体の約20%の割合となっている。 民間企業の課題数の割合に関して応募課題分類別の内訳は、 図3(b)に示す通り、重点産業利用課題が8.5%、一般課題(成果非専有)のうち産業利用分科会で採択された課題が1.8%、 産業利用分科会以外で採択された課題が3.0%、成果専有課題が6.6%である。 この結果が示す通り、産業界は成果公開延期制度をもつ重点産業利用課題をはじめとした利用制度の特長を良く認識していること、 さらに、一般課題の成果非専有および成果専有ともに上手に使い分けていることが分かる。 そのことを良く示しているのが、次ぎに示す図4である。 図4は利用技術分野別(ビームライン別)民間企業実施課題数を応募課題分類に色分けして示したグラフである。 1年前の2006B期との比較から明らかなように、産業利用T(BL19B2)、産業利用U(BL14B2)ともに 成果専有課題が急激に増加していることが分かる。 また、図5に示す利用技術分野別(ビームライン別)民間企業実施課題数と全体の課題数に対する割合から、 依然としてXAFS、X線回折、イメージング、X線小角散乱、硬X線光電子分光の課題に集中し、 結果的に特定のビームラインに課題が集中する傾向は変わらない。 しかしながら、幸いにも、2007B期から産業利用UビームラインBL14B2としてXAFS専用ビームラインの共用が開始され、 既存のXAFSビームラインBL01B1への課題の集中が緩和されている。 また、アンジュレーター光源をもつR&DビームラインBL46XUが硬X線光電子分光装置も装備した産業利用Vビームラインとして 転用が図られ、2008A期には共用ビームラインとしてフル稼働する予定である。 これにより、硬X線光電子分光の競争率緩和が見込まれる。 その他、X線小角散乱など課題が集中する利用技術に対しては、当面スループットの向上を強力に押し進めることはもとより、 長期的には設備増設も視野に入れた戦略が必要である。


    図3 2007B期共同利用研究実施課題の民間企業の実験責任者の割合





    図5 利用技術分野別民間企業実施課題数と全体の課題に対する割合

     図6は、民間企業の実験責任者が共同利用研究課題に応募した課題(不採択課題も含む)の 分野別課題数を半期毎のグラフとして示している。産業界のより一層の利用促進を目的として、 2005年度後半(2005B期)に始まり、2006年度末(2007A期3月まで)に終了した先端大型研究施設戦略活用プログラムによって 突出した民間企業による課題数は、新プログラムである重点産業利用課題が始まった2007A期以降も応募、 採択共に依然として高い水準にある。このことは、依然として課題申請しても採択されずに実施できない課題も未だ数多くあること、 即ち、潜在的なユーザーが現在でも多く存在することを示している。上記で述べた通り、 特定ビームラインへの課題集中による過度な競争は速やかに対策を高じる必要があるものの、 適度な競争はある面、成果創出の源泉として有効であり、止むを得ないものと考える。 また、図7は民間企業による共同利用研究実施課題の課題分類別年次推移を示している。 この集計データだけからでは多くを語れないものの、2006年と2007年のグラフを比較して分かる通り、 重点化施策による課題から成果専有利用、即ち有料利用に移行していると読み取ることができる。


    図6 民間企業における分野別の共同利用研究課題(不採択課題含)


    図7 民間企業による共同利用研究実施課題の課題分類別年次推移


    課題報告書

    この成果報告書に掲載される課題報告書は、2007A利用期に実施された課題のうち、 利用報告書公開日延期申請許可となったものは除いている。

     
    2007B1796 高性能有機ambipolar-TFT開発を目的とした溶液中での凝集形態を制御したポリチオフェン・フラーレン誘導体薄膜の高次構造評価 永松 秀一 九州工業大学
    2007B1797 放射光を用いた単色X線CT装置による乳化物の相構造解析 久米 卓志 花王株式会社
    2007B1799 固体酸化物形燃料電池セル内ルテニウム局所構造のXAFSによる解析 吉田 洋之 関西電力株式会社
    2007B1800 エチレン-ビニルアルコール共重合体(EVOH)のシュリンクに伴う構造および配向変化の評価 山本 友之 日本合成化学工業株式会社
    2007B1803 角層内の脂質充填構造と水の挙動に着目した経皮吸収型製剤の開発 小幡 誉子 星薬科大学
    2007B1806 溶液セルを用いた生体皮膚角層の構造解析-アクアポリンノックアウトマウスを用いたグリセロールの経皮吸収研究- 中沢 寛光 関西学院大学
    2007B1812 生体内輸送蛋白質を用いた新規ドラッグデリバリーシステムの開発 乾 隆 大阪府立大学大学院
    2007B1813 TiN/HfO2ゲートスタック構造の高エネルギーX線光電子分光分析 工藤 喜弘 ソニー株式会社
    2007B1814 CO2レーザ照射によるファイバ融着接続における光ファイバ内部構造変化のSPring-8放射光光源を用いたX線マイクロCT観察による研究 小池 真司 日本電信電話株式会社
    2007B1816 鉄単結晶内微小部残留応力解析 今福 宗行 株式会社日鐵テクノリサーチ
    2007B1817  微小角入射X線回折測定によるポリフェニレンサルファイド(PPS)薄膜の(PPS/金属)界面における結晶構造解析 古賀 智之 株式会社豊田中央研究所
    2007B1819 X線CTによるセメント水和物の分析に関する研究 人見 尚 株式会社大林組
    2007B1820 Ni基金属ガラスのXAFS解析に基づく機能性開拓 真壁 英一 株式会社ビー・ジー・エム
    2007B1822 X線小角散乱によるAlN/SiC基板上GaNナノドットの構造解析 表 和彦 株式会社リガク
    2007B1823 高性能MOSトランジスタのためのSiNストレス印加膜の構造評価2 小椋 厚志 明治大学
    2007B1825 X線マイクロCTによる毛髪損傷構造の可視化  -位相差CTを用いた毛髪コルテックス部の微細構造観察- 竹原 孝二 株式会社カネボウ化粧品
    2007B1827 有機トランジスタの安定性向上のための有機半導体超薄膜の構造評価 吉本 則之 岩手大学
    2007B1828 鉄バクテリア法による砒素処理にかかわる酸化還元反応の放射光XAFSとボルタンメトリ法による観測 藤川 陽子 京都大学
    2007B1829 XAFS測定による半極性InGaN薄膜の局所構造解析 榊 篤史 日亜化学工業株式会社
    2007B1833 リチウムイオン2次電池材料Li[LixMn2-x]O4 (0<=x<=1/3)の局所構造解析 野崎 洋 株式会社豊田中央研究所
    2007B1834 XAFS法による金属ホウ素化合物を用いた水素貯蔵物質の化学状態分析 市川 貴之 広島大学
    2007B1836 放射光粉末回折法による医薬品原薬のab initio構造解析と脱水転移挙動 寺田 勝英 製剤機械技術研究会
    2007B1837 X線を用いたパーマ処理毛髪中のコルテックスの構造解析 安 鋼 コタ株式会社
    2007B1839 XAFS測定による微生物細胞と金属イオンの相互作用の解明に関する研究 小西 康裕 大阪府立大学大学院
    2007B1840 次世代高速書き換え型相変化光ディスク記録膜の局所構造解析による微量元素と界面層効果の解析 中居 司 株式会社東芝
    2007B1841 マイクロビームX線小角散乱を用いた角層細胞間脂質ラメラ構造の解析 片山 靖 花王株式会社
    2007B1842 宝石珊瑚骨軸における炭酸塩構造のSR-IR分析 岩崎 望 高知大学
    2007B1844 ラビングマージンの広い液晶配向膜開発のための、ラビング強度及び分子構造と表面結晶性との相関の解明 石井 秀則 日産化学工業株式会社
    2007B1845 強磁性体薄膜中に挿入したCu層のスピン分極変化 野口 潔 TDK株式会社
    2007B1846 X線小角散乱による、酸性還元剤でパーマ処理した毛髪の中間径フィラメント分子及びキューティクルCMCの構造変化の研究 粉川千絵美 株式会社ヌースフィット
    2007B1850 マイクロビームX線小角散乱法を用いた、「加齢に伴う毛髪うねり」緩和剤の毛髪微細構造への作用解析 伊藤 隆司 花王株式会社
    2007B1851 軽元素系水素化物の結晶構造解析による水素貯蔵材料開発 則竹 達夫 株式会社豊田中央研究所
    2007B1852 商用高温超伝導テープ材における低温での超伝導層の曲げ歪状態解析の基礎検討 奥田 浩司 京都大学
    2007B1854 光電子顕微鏡によるLSIデバイスのLayer解析の研究2 辻 淳一 株式会社東レリサーチセンター
    2007B1856 PEEMによる磁気ヘッド・MRAM用交換結合膜の界面磁区構造観察 淡路 直樹 株式会社富士通研究所
    2007B1858 放射光利用による有機工業材料系を対象とした微量粉末試料からの構造解析手法開発研究II 橋爪 大輔 独立行政法人理化学研究所
    2007B1861 ナノチューブ配線低抵抗化に向けたナノチューブビア構造の最適化 粟野 祐二 MIRAI-Selete
    2007B1862 宝石サンゴの炭酸塩骨格中における微量元素の分布解明 長谷川 浩 金沢大学大学院
    2007B1863 マイクロビームX線小角散乱を用いた日本人毛髪の解析 齋藤 香織 株式会社マンダム
    2007B1865 微小角入射X線回折法を用いたカーボンナノウォールの成長メカニズムの研究 橘 勝 横浜市立大学
    2007B1866 超微細加工レジスト材料における酸発生剤分布の高分子分子量依存性の解明 小野寺純一 東京応化工業株式会社
    2007B1867 X線イメージングによるSOFCアノードのREDOX時のモホロジー変化観察 矢加部久孝 東京ガス株式会社
    2007B1869 イオンビーム配向法によるポリイミド膜の分子配向 木下 優子 日新イオン機器株式会社
    2007B1916 時分割X線散乱を用いたタイヤ用未加硫ゴム保管時の充てん剤凝集挙動制御法開発 網野 直也 横浜ゴム株式会社
    2007B1918 XAFSによる真空紫外線励起用新規開発緑色蛍光体の構造解析 國本 崇 徳島文理大学
    2007B1919 MEMSにおける異種材料間直接接合のメカニズムの解明 矢代 航 東京大学
    2007B1920 X線イメージングによるリチウムイオン二次電池合金負極の構造解析 草地 雄樹 日産自動車株式会社
    2007B1922 タングステンめっき用溶融塩浴中のタングステンイオン状態解析 (1年課題) 飯原 順次 住友電気工業株式会社
    2007B1923 試料電流法XAFSによるめっき初期の析出状態評価 飯原 順次 住友電気工業株式会社
    2007B1924 半導体レーザー用エピ層中の微量添加Feの状態解析 飯原 順次 住友電気工業株式会社
    2007B1926 微小角入射X線散乱によるラビング処理したポリオレフィンフィルムの表面構造解析 吉谷 博司 積水化学工業株式会社
    2007B1928 高温下におけるODS鋼ナノ粒子析出プロセス評価のためのXRDおよびSAXS同時その場測定 菖蒲 敬久 独立行政法人日本原子力研究開発機構
    2007B1929 多孔質ガラスを利用した高輝度蛍光ガラスの局所構造解析 岡島 敏浩 佐賀県立九州シンクロトロン光研究センター
    2007B1930 シックハウスガス可視化検知のためのベイポクロミック有機結晶の開発 高谷 光 大阪大学大学院
    2007B1931 溶接部近傍表面内部残留応力測定 (1年課題) 栗村 隆之 三菱重工業株式会社
    2007B1932 中性粒子ビーム堆積技術を用いて作製したHfO2/SiO2積層構造の膜密度のデプスプロファイルの測定 寒川 誠二 東北大学
    2007B1933 次世代高速書き換え型相変化光ディスク記録膜の局所構造解析による微量元素と界面層効果の解析(2) 中居 司 株式会社東芝
    2007B1935 超薄膜レジスト材料における酸発生剤分布の解明 小野寺純一 東京応化工業株式会社
    2007B1936 高強度アルミニウム合金における腐食疲労損傷のその場観察 (1年課題) 中井 善一 神戸大学大学院
    2007B1937 Reverse strike共沈法で調製した高活性γ-Ga2O3-Al2O3触媒の活性サイトのXAFSによる構造解析 岩本 伸司 京都大学大学院
    2007B1939 蛍光EXAFSによるhigh-kゲート絶縁膜HfSiON中Hf原子周辺の局所構造解析(2) 尾嶋 正治 東京大学
    2007B1941 放射光CTによるステンレス鋼中SCCき裂の検出とサイジング 中東 重雄 財団法人発電設備技術検査協会
    2007B1942 末端を官能基修飾した高機能ゴム材料の開発(2) 冨永 哲雄 JSR株式会社
    2007B1943 タービンロータ嵌合部における新たなフレッティング疲労き裂進展モデルの構築 栗村 隆之 三菱重工業株式会社
    2007B1945 真性歪および有効弾性限を最適化したReBCO Coated Conductorの結晶成長の解明 長村 光造 財団法人応用科学研究所
    2007B1946 XAFS法によるアミドイミド系水素貯蔵材料に担持したチタン触媒の化学状態分析 市川 貴之 広島大学
    2007B1949 ユーロピウムドープ窒化アルミニウム蛍光体の発光中心の研究 武田 隆史 独立行政法人物質・材料研究機構
    2007B1952 ボロン系アモルファス固体への遷移金属ドープによる結合転換と局所構造に関する研究 木村 薫 東京大学
    2007B1953 BaTiO3セラミックスの誘電特性に及ぼすCa添加効果のXAFSによる研究 安川 勝正 京セラ株式会社
    2007B1954 構造材内部欠陥を起点とする疲労き裂のマイクロCTによる可視化と破壊メカニズムの検討 (1年課題) 佐野 雄二 株式会社東芝
    2007B1958 放射光粉末回折法を用いた医薬品(固形剤)中の微量主薬の検出と結晶状態解析 増田 勝彦 田辺三菱製薬株式会社
    2007B1961 偏光XAFS測定を用いた半極性InGaN薄膜の局所構造解析 榊 篤史 日亜化学工業株式会社
    2007B1962 X線吸収スペクトルを用いたナノ粒子に付着する金属元素の結合状態の観察 内山 巖雄 京都大学大学院
    2007B1963 高反応選択性を発現する固体パラジウム触媒の構造解明 杉村 高志 兵庫県立大学大学院
    2007B1964 LSI配線応用に向けた微小角入射X線回折による多層グラフェン構造評価 粟野 祐二 株式会社富士通研究所
    2007B1965 in-plane X線回折法によるホイスラー合金薄膜の構造解析 大森 廣文 株式会社東芝
    2007B1966 溶液プロセスによる有機TFT開発を目的とした可溶性半導体高分子のフィブリル構造形成過程に関する研究(I) 吉田 郵司 独立行政法人産業技術総合研究所
    2007B1968  廃棄物溶融処理時の溶融条件が溶融スラグ中鉛の挙動に与える影響 高岡 昌輝 京都大学
    内容については、「平成19年度 SPring-8 重点産業利用課題成果報告書(2007B)」をご覧下さい。
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