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平成21年度 SPring-8 重点産業利用課題成果報告書(2009B)
目次

1. はじめに
2. 公募の内容
3. 成果公開の考え方
4. 実施の経緯と流れ
5. 結果
6. 民間企業への波及効果と今後の課題
7. 課題利用報告書
* 送付を希望される方は、連絡先(氏名、所属、〒住所、E-mail)をご記入の上、 事務局 support@spring8.or.jp までE-mailでご連絡ください。

はじめに

 産業利用の更なる促進を目的に、平成17年度(2005B期)より文部科学省のプログラムとして先端大型研究施設 戦略活用プログラム(戦略活用プログラム)が実施されて支援体制の整備が進み、利用実績も増加すると共に 産業利用推進室の活動も軌道に乗ってきた。平成19年度(2007A期)から、重点産業利用課題は領域指定型の 重点研究課題の一つとして承認され、先に実施された戦略活用プログラムを継承する施策として位置付けて実施 されている。

公募の内容
  1. 公募の分類
     本プログラムで募集する課題は「新規利用者」、「新領域」、「産業基盤共通」と「先端技術開発」の4つに 分類している。
     「新規利用者」とは、申請代表者が、これまで、一般課題への応募などを含め、SPring-8を利用した ことのない利用者を指している。但し、事業規模が相当程度大きく事業範囲が多岐に及ぶ企業で、これらの 企業が既に利用している場合には、既に利用している事業分野とは異なる新規分野からの新たなユーザーであれ ば、「新規利用者」として認めている。
     「新領域」とは、申請者の利用経験に関係なく、これまでSPring-8で実施されたことがない産業領域、あるい は、近年開発された新手法を用いることによって新たな展開が可能になる産業領域を指している。新領域の例示 を下記に示しているが、これ以外でも新規性が認められる研究領域であれば、新領域の対象になる。

       ○コンクリート等建築資材⇒三次元内部構造をX線CTによる撮影
       ○ヘルスケア⇒毛髪や皮膚の構造をX線回折・散乱及び透視画像で解析
       ○医薬品原薬⇒粉末X線回折による構造解析
       ○硬X線光電子分光法⇒薄膜材料の内部界面の状態解析
       ○環境負荷物質微量分析⇒大気・水などの重金属汚染物質の化学状態
       ○耐腐食構造材⇒金属材料の表層やサビの構造・状態分析
       ○高密度記録装置⇒DVD、HDD等の新規記録材料の薄膜構造・状態分析

     「産業基盤共通」とは、それぞれの産業分野に共通する課題を解決する目的、あるいは産業利用に有効な手法 の共同開発を目的として、複数の企業を含むグループが一体となって取り組むもので、新計測技術の確立、共通 課題のデータベース化等を図る研究を指している。申請代表者が複数の企業を含むグループを取りまとめて、1つ の課題として申請して頂く。ここで言う「複数の企業」とは、それぞれ参加する企業が同等かつ独立に成果を 利用できる関係にあることを想定している。したがって、産学官連携の研究グループによる利用の場合には、学 と官は「複数の企業」としてカウントされない。
     「先端技術開発」とは、ユーザーが実施するイノベーション型の技術開発課題で、成果の企業業績への貢献、 あるいは社会還元を目指した研究を指している。

  2. 公募の回数
    BL19B2(産業利用T)、BL14B2(産業利用U)、BL46XU(産業利用V)の3本のビームラインは、2007B期から課題 公募を2回に分けて実施している。これら3本の産業利用ビームラインを除く共用ビームラインのうち、重点産業利 用課題にビームタイムを割り当てた対象ビームラインでは、これまで通り、2009B期の課題公募では1回である。

成果公開の考え方

SPring-8を利用して得られた実験・解析結果及び成果は、以下の利用報告書に取りまとめて提出してもらう。

  1. 利用報告書Experiment Report(英文または和文)
    利用終了日から60日以内にオンライン提出。
  2. 重点産業利用課題報告書(原則和文)
    課題採択後に利用業務部より送付される文書に記載されている締切日までに提出。 なお、提出方法は「電子データ(原則としてMSワード)」を電子メールまたは郵送で所定の宛先に提出。

 上記の2009B期の報告書のうち「利用報告書Experiment Report」は2009B期終了後60日目から2週間後 にWeb上で公開される。「重点産業利用課題報告書」は印刷公表とする。ただし、利用者が提出した報告 書について、製品化や特許取得などの理由により公開の延期を希望する場合は、財団法人高輝度光科学 研究センターが適当と認めた場合に限り最大2年間延期することができる(2つの報告書自体は、締切日 までに必ず提出してもらう)。また、公開延期期間満了時には、公開延期を認められた申請時の理由に 対して、結果・成果等をまとめて報告をしてもらう。

実施の経緯と流れ
  1. 重点領域の指定
     重点産業利用課題が領域指定型の重点研究課題として、平成19年1月26日に重点領域推進委員会で 平成19年度と平成20年度の2年間指定を受けた。さらに平成20年10月2日の第6回選定委員会で平成23 年度までの継続が承認され、重点産業利用課題は領域指定型の重点研究課題(公募)として実施され ている。
  2. 課題選定
     課題の選考は、学識経験者、産業界等の有識者から構成される「利用研究課題審査委員会」 (以下「課題審査委員会」という。)により実施される。課題審査委員会は、「重点産業利用領域」 として領域指定された趣旨に照らして優秀と認められる課題を選定する。
     審査は非公開で行われるが、申請課題との利害関係者は当該課題の審査から排除される。また、 各委員は委員として取得した一切の情報を委員の職にある期間だけでなくその職を退いた後も第三者 に漏洩しないこと、情報を善良な管理者の注意義務をもって管理すること等の秘密保持を遵守するこ とが義務付けられている。
  3. 審査の手順
     審査は以下の手順により実施される。
    1. 形式審査
      提出された申請書類について、応募の要件を満たしているかについて審査する。 なお、応募の要件を満たしていないものは、以降の審査の対象から除外される場合がある。
    2. 書類審査
      課題審査委員会の下に設置する産業利用分科会により、書類審査を実施する。
    3. 最終審査
      書類審査における評価を踏まえ、課題審査委員会において審査を実施し採択課題を決定する。
  4. 審査の観点
     審査(形式審査を除く)は、以下の観点に重点を置いて実施される。
    1. 科学技術における先端性を有すること
    2. 産業利用上の成果創出に資すること
    3. 課題分類の趣旨に合致すること
    4. 研究手段としてのSPring-8の必要性
    5. 実験内容の技術的な実施可能性
    6. 実験内容の安全性
  5. 利用者支援
     コーディネーター並びに産業利用支援グループが中心となり、課題毎に担当者をおき、 BL担当者の協力の下、全所的に利用者支援を実施した。支援の内容は、重点分野における実験環境の整備、 コーディネーター及びスタッフによる実験企画・準備、実験実施、実験解析に至る技術支援などからなる。
  6. 利用実験
     平成21年10月6日〜平成22年2月23日までに実施された利用実験課題である。
  7. 報告
     平成21年度2009B期の重点産業利用課題の成果報告は、平成22年度内に行う。
結果

以下に平成21年度2009B期の重点産業利用課題の応募・採択結果についてまとめる。

  1. 応募・採択結果

    表1 募集時期及び研究機関別応募・採択結果
    募集時期 機関分類 応募数* 採択数* 採択率(%)
    第1回募集 学官
    44
    23
    52.3
    産業界
    74
    51
    68.9
    第2回募集 学官
    32
    15
    46.9
    産業界
    36
    18
    50.0
    *応募数・採択数には、一般課題に分類される下記の12条課題は除外している。
    第1回:8課題(学官:不採択なし)
    第2回:5課題(学官:採択2課題、不採択3課題)


  2. 分類
    表2 募集時期及び研究機関別・領域別採択結果
    募集時期 領域分類 産業界 学官 産学官合計
    第1回募集 産業基盤共通
    0
    3
    3
    新規利用者
    6
    2
    8
    新領域
    16
    3
    19
    先端技術開発
    29
    15
    44
    第2回募集 産業基盤共通
    1
    0
    1
    新規利用者
    1
    4
    5
    新領域
    3
    1
    4
    先端技術開発
    13
    10
    23


  3. 利用報告書の公開日延期
     2009B期で実施した課題について利用報告書公開日延期申請が提出された課題の内訳は次の通りである。
    ○公開日延長許可:22課題
     理由内訳(複数回答有り)
      a.知的財産権の取得のため:19課題
      b.事業への適用のため:11課題(8課題はaと重複、1課題はcと重複)
      c.その他の理由:3課題(2課題はaと重複、1課題はbと重複)

    ○公開日延長不許可:1課題

     下記の表3は、公開日延期許可された課題を分野別に分類した結果を示す。

    表3 分野別公開日延期許可課題
    分野 課題件数
    エレクトロニクス
    5
    環境・エネルギー
    9
    素材(金属・高分子等)
    4
    製薬・生活用品
    4
    その他
    0
    合計
    22


  4. 産官学の動向
    1. 研究機関
       本プログラムでは産業界にとって有効な利用手法の開発が産学官連携により積極 的に展開されるとの観点から、民間企業のみならず、大学等の公的部門からの応募 も受け入れることにしている。民間企業が実験責任者の採択課題の割合は2007A期 より約60%から70%の間で推移している。2009B期は民間企業の割合は約65%でこれま でと同様である。毎回の傾向であるが、第1回募集よりも第2回募集の方が採択され る民間企業の割合が低く、2009Bの第2回募集ではその割合が約55%である。これは、 大学等のユーザーは一般課題と同時に行われる第1回募集では、重点産業利用課題 以外の制度を利用するためと考えている。なお、07A期より08B期までは、民間企業 及び大学等研究機関からの応募が単調に増加していたが、2009A期に応募数が減少し た。これは2009A第1回募集期間前後に発生した世界的な金融危機(いわゆるリーマン ショック)の影響と思われる(企業の応募が前年同期比で約20%減少)。2009B期は 企業からの応募が回復したが、依然2008B期の約90%程度にとどまっている。
    2. 産業基盤共通
       複数の企業を含むグループが一体となって取り組む「産業基盤共通」の課題は、 表2に示す通り2009B期では合計4課題が採択され、このうち3課題の申請代表者が 学官の研究機関である。産業基盤共通に分類される課題は2008B期までは5-7件が 採択されていたが、2009A期は3件、2009B期は4件と減少気味である。 (*注:2009A期の重点産業利用課題成果報告書では、産業基盤共通に分類される 課題は9件と報告したが、認定要件についてより厳格な見直しを行ったところ、 産業基盤共通に認定される課題は3件、他の6件は先端技術開発に分類されるべき 課題であった。)
    3. 分野別分類
       図1は、申請代表者の申告に基づいて分類した分野別採択課題数を示している。 産学官の総計ではエレクトロニクス分野の課題が多く、次いで素材分野、環境・ エネルギー分野の順である。エレクトロニクス分野が減少する一方、環境・エネ ルギー分野は漸増している。この分野での民間企業の課題数はほぼ横ばいである 一方、官学の利用が増えている。これは、二次電池、燃料電池、太陽電池などの いわゆるグリーンエネルギー関連技術がますます注目され、官学における研究 人口が増加していることを反映したものと考えられる。
      民間企業への波及効果と今後の課題

       図2は2009B期において、重点産業利用課題を含む共同利用研究実施課題のうち、 実験責任者が民間企業の研究者である課題数の割合を示したものである。図に示 す通り、実験責任者が民間企業の研究者である課題数は共同利用研究実施課題全体 の21%である。その内訳は、重点産業利用課題が9.6%、一般課題のうち成果専有 課題が8.8%である。この2つを合わせて18.4%となり、産業界は成果公開延期制度 をもつ重点産業利用課題と成果専有課題の2つの利用制度を旨く使い分けていること が分かる。そのことは、図3に示す課題分類別推移においてもその傾向が良くあらわ れている。即ち、2009B期は、民間企業が共同利用研究課題で実施したもののうち、 実に87%が重点産業利用課題あるいは成果専有課題の2つの利用制度で実施されて いる。この結果は、本制度が民間企業に根付いてきていることを示すものである。 また、図4は、利用技術分野別(ビームライン別)民間企業実施課題数を応募課題分類 に色分けして示したグラフである。図から明らかなように産業利用T(BL19B2)、 産業利用U(BL14B2)、産業利用V(BL46XU)の3本のビームラインでは、成果専有 課題の割合が他のビームラインと比較して極端に多いことが分かる。このことは、 SPring-8の有用性が益々認識され、民間企業の実験課題がより事業領域に近い課題 へと広がりつつあることのあらわれであると考えられる。一方、成果専有課題や成 果公開優先利用課題の増加によって、重点産業利用課題に配分できるビームタイム が減少傾向にあるため、実験の効率化による採択率向上を目指した機器整備を行う ことが一層必要になっていると考えられる。



      図1. 重点産業利用課題における分野別採択課題数



      図2. 2009B期 共同利用研究実施課題における民間企業の実験責任者の割合



      図3. 民間企業による共同利用研究実施課題の課題分類別推移




      図4. 2009B期 利用技術分野別(ビームライン別)民間企業実施課題数



      課題利用報告書

      この成果報告書に掲載される課題報告書は、2009B利用期に実施された課題のうち、 利用報告書公開日延期申請許可となったものは除いている。

       
      2009B1783 鉄触媒クロスカップリング反応における触媒活性種の解析 畠山 琢次 京都大学
      2009B1786 有機バイオ単分子薄膜の周期構造の解析 酒井 千尋 日本板硝子テクノリサーチ株式会社
      2009B1787 天然ゴムが生来持つ高次構造の解明 川面 哲司 横浜ゴム株式会社
      2009B1788 水熱条件下でのトバモライト生成過程のその場X線回折(4) 松野 信也 旭化成株式会社
      2009B1790 X線侵入深さ制御X線回折測定技術を用いたFeスケ−ル相変態深さ分布の評価によるスケ−ル剥離抑制技術の検討(2) 大塚 伸夫 住友金属工業株式会社
      2009B1795 メタルゲート/high-k極薄膜の熱的安定性に対する蛍光XAFS法による評価 尾嶋 正治 東京大学
      2009B1799 放射光粉末X線回折法による宝石サンゴの真偽判定 長谷川 浩 金沢大学
      2009B1801 新たな天然系高分子材料開発のための遺伝子組換えシルク単繊維の結晶弾性率評価(2) 小林 一稔 日立化成工業株式会社
      2009B1803 化合物半導体中の微量添加元素の電子状態解析 飯原 順次 住友電気工業株式会社
      2009B1807 Rietveld・MEM解析によるSrBi2Ta2O9系強誘電体の結晶・電子構造の検討 伊藤 孝憲 AGCセイミケミカル株式会社
      2009B1808 波長分散蛍光法による茶葉中の微量金属元素(Mn)の状態分析 伊藤 嘉昭 京都大学
      2009B1810 2次元検出器による内部応力評価技術の開発 鈴木 賢治 新潟大学
      2009B1812 増幅用光ファイバ中の添加元素の状態分析 飯原 順次 住友電気工業株式会社
      2009B1815 Sr, Ca-La-CoM型フェライトのX線磁気円二色性測定による磁気構造解析 小林 義徳 日立金属株式会社
      2009B1819 Si基板側からの光電子分光によるSiO2/Si界面構造の解明 河瀬 和雅 三菱電機株式会社
      2009B1821 固体高分子形燃料電池に用いるNb酸化物をベースとした非白金酸素還元触媒のXAFS局所構造解析 石原 顕光 横浜国立大学
      2009B1822 X線高速/高分解能イメージングのためのキャピラリコンデンサの開発 青山 朋樹 株式会社堀場製作所
      2009B1824 高分解能粉末X線回折法による酸化物系カソード材料の精密構造解析 今井 英人 日本電気株式会社
      2009B1825 水膜除去により氷板路上での摩擦力を向上させたゴム材料の開発 網野 直也 横浜ゴム株式会社
      2009B1826 X線吸収分光法を用いたイオン伝導型固体電解質スイッチの解析 今井 英人 日本電気株式会社
      2009B1829 時間分割マイクロビーム小角X線散乱による溶液中の毛髪の構造解析 梶浦 嘉夫 花王株式会社
      2009B1830 CO2レーザ照射によるファイバ融着接続における光ファイバ内部構造変化のSPring-8放射光光源を用いたX線マイクロCT観察による研究 小池 真司 日本電信電話株式会社
      2009B1831 GeSbTeSe系相変化材料の結晶構造(その2) 松永 利之 パナソニック株式会社
      2009B1833 高分解能硬X線光電子分光(HX-PES)評価による極浅ボロンのセルフレギュレーションプラズマドーピング(SRPD)サンプルと非SRPDサンプルの化学結合状態の違いの評価 金  成国 株式会社 ユー・ジェー・ティー・ラボ
      2009B1834 垂直磁化型磁壁移動メモリ用磁性細線の磁壁電流駆動観察 大嶋 則和 日本電気株式会社
      2009B1835 特異な配位環境を有するCo前駆体を用いた高活性FT合成触媒の新規調製法: 高分散活性種 形成過程のin-situ QXAFS観察 小泉 直人 東北大学
      2009B1837 赤外分光法を用いた固体酸化物型燃料電池材料の劣化挙動の考察 伊藤 孝憲 AGCセイミケミカル株式会社
      2009B1838 紫外線の慢性的な照射による角層細胞間脂質構造への影響 吉田 友和 花王株式会社
      2009B1839 結晶弾性率法を用いたナノコンポジットの界面強度評価 岸本 浩通 住友ゴム工業株式会社
      2009B1841 超電導機器応用を指向した実用超伝導線材の内部ひずみ測定技術の開発(1年課題) 菅野未知央 京都大学
      2009B1843 載荷試験によるコンクリート中の破壊過程の直接観察 人見  尚 株式会社大林組
      2009B1844 軟X線によるナノマテリアルイメージングの開発 淡路 直樹 富士通株式会社
      2009B1845 クリープ損傷評価のための結晶3Dマッピング法の開発 中井 善一 神戸大学
      2009B1848 新規な低毒性MRI画像診断薬の開発と局所構造解析 高谷  光 京都大学
      2009B1849 シンクロトロンX線と中性子から明らかにする不均一網目構造が及ぼす加硫ゴムの繰り返し変形挙動 池田 裕子 京都工芸繊維大学
      2009B1850 すれすれ入射X線小角散乱法による次世代化学増幅型レジスト中の酸発生剤クラスター分布に与える高分子構造影響の研究 佐藤 和史 東京応化工業株式会社
      2009B1853 走査型X線微分位相顕微鏡を用いたブリーチ処理毛髪の構造解析 井上 敬文 株式会社カネボウ化粧品
      2009B1854 高機能貴金属合金触媒の製品化に向けた複合サブナノ金属超微粒子合成法の開発と微細構造解析 高木由紀夫 エヌ・イー ケムキャット株式会社
      2009B1856 浄水製造のための生物学的マンガン酸化反応塔の立ち上げ条件解明―連続通水条件下でのin-situ XAFS測定条件の導出 藤川 陽子 京都大学
      2009B1857 高性能化に向けた塗布型有機薄膜太陽電池の成膜評価 小島 優子 株式会社三菱化学科学技術研究センター
      2009B1858 高速ボス成形加工を施したマグネシウム合金の内部欠陥観察 早乙女秀丸 茨城県工業技術センター
      2009B1862 硬X線光電子分光によるSOG膜のシュリンク改善効果の解明 小椋 厚志 明治大学
      2009B1864 プロピレンの選択酸化活性を持つ金クラスター触媒の in-situ XAFS 測定 大橋 弘範 首都大院都市環境
      2009B1865 燃料電池用多孔体中の酸素拡散と液水分布特性同時計測の可能性検討 荒木 拓人 横浜国立大学
      2009B1867 石鹸を主成分とする林野火災用泡消火剤の開発 秋葉  勇 北九州市立大学
      2009B1868 リチウムイオン二次電池用負極炭素材の構造解析 妹尾 政宣 株式会社住友ベークライト
      2009B1873 オーミック電極/GaN界面の硬X線光電子分光分析 高橋 直子 株式会社豊田中央研究所
      2009B1878 高輝度エックス線透過法を用いた高温酸化アルミナ皮膜の相変態挙動のその場観察と相変態に及ぼす各種金属コーティングの影響 林  重成 北海道大学
      2009B1879 XAFSによるハイドロサイレーション反応過程の白金触媒の構造解析‐その2 国谷 譲治 信越化学工業株式会社
      2009B1883 金属/High-k材料/Si基板における界面構造と電子状態の硬X線光電子分光法による評価 小川 慎吾 株式会社東レリサーチセンター
      2009B1887 白色X線マイクロビーム、二次元検出器と半導体検出器を用いたステンレス鋼の結晶粒界歪み分布の加工方位および加工度による影響 有岡 孝司 株式会社原子力安全システム研究所
      2009B1888 気/水界面の界面活性剤による吸着単分子膜のX線面内回折測定技術の開発 飯村 兼一 宇都宮大学
      2009B1891 化粧品製剤における液性による角層細胞間脂質の構造変化 簗瀬 香織 クラシエホームプロダクツ株式会社
      2009B1894 アルミニウム合金における二つの隣接した疲労き裂の進展と合体挙動 佐野 雄二 株式会社東芝
      2009B1896 硬X線光電子顕微鏡を用いた高分子材料の化学状態解析 金子 房恵 住友ゴム工業株式会社
      2009B1897 固体高分子形燃料電池正極用カーボンアロイ触媒における酸素還元反応の活性化機構解明 尾嶋 正治 東京大学
      2009B1898 CZシリコン結晶Dash-necking部分の転位の三次元分布 飯田  敏 富山大学
      2009B1899 クロスカップリング反応のためのベースメタル触媒開発:巨大有機基を有する難結晶性鉄錯体の粉末X線構造解析 高谷  光 京都大学
      2009B1900 すれすれ入射X線回折による有機半導体薄膜結晶の構造解析 越谷 直樹 ソニー株式会社
      2009B2015 水熱条件下でのトバモライト生成過程のその場X線回折(5) 松野 信也 旭化成株式会社
      2009B2017 自動車排ガス浄化用AlPO4担持貴金属触媒のin-situ局所構造解析 池上 啓太 熊本大学
      2009B2019 水溶液下さび還元過程の観察(2) 土井 教史 住友金属工業株式会社
      2009B2021 末端を官能基修飾した高機能ゴム材料の開発(5) 冨永 哲雄 JSR株式会社
      2009B2022 Kuwait産の原油から得られた常圧残さ油の水素化処理− XAFS分析による石油中Ni, Vの構造解析 川崎 伸夫 財団法人九州環境管理協会
      2009B2023 電圧印加ゲートスタック試料の硬X線光電子分光測定(2) 高石理一郎 株式会社東芝
      2009B2025 すれすれ入射X線回折法によるポリイミド薄膜表面の構造評価 馬路  哲 住ベリサーチ株式会社
      2009B2028 常温で銀の20倍の超良電導性を示す水素固溶Ni-Nb-Zr系アモルファス合金の伝導機構解明のためのXAFSによる金属クラスタの局所構造解析 福原 幹夫 東北大学
      2009B2029 理想電極界面を用いたリチウム電池充放電反応場における電極表面局所構造解析 菅野 了次 東京工業大学
      2009B2032 金属表面と高分子の接着機構解析のためのXAFS実用化検討(1年課題) 岸本 浩通 住友ゴム工業株式会社
      2009B2040 リチウムイオン二次電池用負極炭素材の構造解析-U 妹尾 政宣 住友ベークライト株式会社
      2009B2041 平板炭素材料表面での熱可塑性高分子薄膜の結晶状態解析 小林 大悟 東レ株式会社
      2009B2044 加硫メカニズムにおける酸化亜鉛の役割に関する研究−環境適合性ゴム材料の設計のために− 池田 裕子 京都工芸繊維大学
      2009B2046 ゴム接着処理後のブラス表面の硬X線光電子分光解析(2) 鹿久保 隆志 横浜ゴム株式会社
      2009B2052 放射光X線を利用した車輪踏面下の残留応力分布計測 野中  勇 東北大学
      2009B2054 近紫外励起用レアメタル・フリー赤色蛍光におけるMn2+発光中心の局所構造の研究 宮本 快暢 鳥取大学
      2009B2056 X線回折法による配向カーボンナノウォールの結晶構造解析 堀   勝 名古屋大学
      2009B2064 時分割超小角X線散乱法を用いたタイヤ用シリカ配合ゴムの低燃費化手法の開発 網野 直也 横浜ゴム株式会社
      2009B2065 分子線エピタキシーにより成長した二元化合物CrTe薄膜の局所構造解析 黒田 眞司 筑波大学
      2009B2066 硬X線光電子分光測定による固体高分子形燃料電池に用いる酸化物系非白金酸素還元触媒の表面化学結合状態解析 石原 顕光 横浜国立大学
      2009B2067 X線散乱法による半導体デバイス形状計測法の開発 伊藤 義泰 株式会社リガク
      2009B2069 新規耐熱性アルミナ繊維の放射光X線小角散乱測定による評価 手塚  真 株式会社三菱化学科学技術研究センター
      2009B2070 すれすれ入射X線回折による有機半導体超薄膜の成長初期過程の構造解明 吉本 則之 岩手大学
      2009B2072 連続通水条件下でのマンガンの生物酸化過程のリアルタイムXAFS測定(1年課題) 藤川 陽子 京都大学
      2009B2073 X線と中性子のコントラストを利用した小角散乱法による酸化物分散強化鋼中のナノ酸化物析出組織の定量評価 大場洋次郎 独立行政法人物質・材料研究機構
      2009B2079 βサイアロン蛍光体の発光中心の局所構造 武田 隆史 独立行政法人物質・材料研究機構
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