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平成22年度 SPring-8 重点産業利用課題成果報告書(2010A)
目次

1. はじめに
2. 公募の内容
3. 成果公開の考え方
4. 実施の経緯と流れ
5. 結果
6. 民間企業利用への効果
7. 利用者アンケートの結果と今後の課題
8. 課題利用報告書
* 送付を希望される方は、連絡先(氏名、所属、〒住所、E-mail)をご記入の上、 事務局 support@spring8.or.jp までE-mailでご連絡ください。

はじめに

 産業利用の更なる促進を目的に、平成17年度(2005B期)より文部科学省のプログラムとして先端大型研究施設 戦略活用プログラム(戦略活用プログラム)が実施されて支援体制の整備が進み、利用実績も増加すると共に 産業利用推進室の活動も軌道に乗ってきた。平成19年度(2007A期)から、重点産業利用課題は領域指定型の 重点研究課題の一つとして承認され、先に実施された戦略活用プログラムを継承する施策として位置付けて実施 されている。

公募の内容
  1. 公募の分類
     本プログラムで募集する課題は「新規利用者」、「新領域」、「産業基盤共通」と「先端技術開発」の4つに 分類している。
     「新規利用者」とは、申請代表者が、これまで、一般課題への応募などを含め、SPring-8を利用した ことのない利用者を指している。但し、事業規模が相当程度大きく事業範囲が多岐に及ぶ企業で、これらの 企業が既に利用している場合には、既に利用している事業分野とは異なる新規分野からの新たなユーザーであれ ば、「新規利用者」として認めている。
     「新領域」とは、申請者の利用経験に関係なく、これまでSPring-8で実施されたことがない産業領域、あるい は、近年開発された新手法を用いることによって新たな展開が可能になる産業領域を指している。新領域の例示 を下記に示しているが、これ以外でも新規性が認められる研究領域であれば、新領域の対象になる。

       ○コンクリート等建築資材⇒三次元内部構造をX線CTによる撮影
       ○ヘルスケア⇒毛髪や皮膚の構造をX線回折・散乱及び透視画像で解析
       ○医薬品原薬⇒粉末X線回折による構造解析
       ○硬X線光電子分光法⇒薄膜材料の内部界面の状態解析
       ○環境負荷物質微量分析⇒大気・水などの重金属汚染物質の化学状態
       ○耐腐食構造材⇒金属材料の表層やサビの構造・状態分析
       ○高密度記録装置⇒DVD、HDD等の新規記録材料の薄膜構造・状態分析

     「産業基盤共通」とは、それぞれの産業分野に共通する課題を解決する目的、あるいは産業利用に有効な手法 の共同開発を目的として、複数の企業を含むグループが一体となって取り組むもので、新計測技術の確立、共通 課題のデータベース化等を図る研究を指している。申請代表者が複数の企業を含むグループを取りまとめて、1つ の課題として申請して頂く。ここで言う「複数の企業」とは、それぞれ参加する企業が同等かつ独立に成果を 利用できる関係にあることを想定している。したがって、産学官連携の研究グループによる利用の場合には、学 と官は「複数の企業」としてカウントされない。
     「先端技術開発」とは、ユーザーが実施するイノベーション型の技術開発課題で、成果の企業業績への貢献、 あるいは社会還元を目指した研究を指している。

  2. 公募の回数
    BL19B2(産業利用T)、BL14B2(産業利用U)、BL46XU(産業利用V)の3本のビームラインは、2007B期から課題 公募を2回に分けて実施している。これら3本の産業利用ビームラインを除く共用ビームラインのうち、重点産業利 用課題にビームタイムを割り当てた対象ビームラインでは、これまで通り、2010A期の課題公募では1回である。

成果公開の考え方

SPring-8を利用して得られた実験・解析結果及び成果は、以下の利用報告書に取りまとめて提出してもらう。

  1. 利用報告書Experiment Report(英文または和文)
    利用終了日から60日以内にオンライン提出。
  2. 重点産業利用課題報告書(原則和文)
    課題採択後に利用業務部より送付される文書に記載されている締切日までに提出。 なお、提出方法は「電子データ(原則としてMSワード)」を電子メールまたは郵送で所定の宛先に提出。

 上記の2010A期の報告書のうち「利用報告書Experiment Report」は2010A期終了後60日目から2週間後 にWeb上で公開される。「重点産業利用課題報告書」は印刷公表とする。ただし、利用者が提出した報告 書について、製品化や特許取得などの理由により公開の延期を希望する場合は、財団法人高輝度光科学 研究センターが適当と認めた場合に限り最大2年間延期することができる(2つの報告書自体は、締切日 までに必ず提出してもらう)。また、公開延期期間満了時には、公開延期を認められた申請時の理由に 対して、結果・成果等をまとめて報告をしてもらう。

実施の経緯と流れ
  1. 重点領域の指定
     重点産業利用課題が領域指定型の重点研究課題として、平成19年1月26日に重点領域推進委員会で 平成19年度と平成20年度の2年間指定を受けた。さらに平成20年10月2日の第6回選定委員会で平成23 年度までの継続が承認され、重点産業利用課題は領域指定型の重点研究課題(公募)として実施され ている。
  2. 課題選定
     課題の選考は、学識経験者、産業界等の有識者から構成される「利用研究課題審査委員会」 (以下「課題審査委員会」という。)により実施される。課題審査委員会は、「重点産業利用領域」 として領域指定された趣旨に照らして優秀と認められる課題を選定する。
     審査は非公開で行われるが、申請課題との利害関係者は当該課題の審査から排除される。また、 各委員は委員として取得した一切の情報を委員の職にある期間だけでなくその職を退いた後も第三者 に漏洩しないこと、情報を善良な管理者の注意義務をもって管理すること等の秘密保持を遵守するこ とが義務付けられている。
  3. 審査の手順
     審査は以下の手順により実施される。
    1. 形式審査
      提出された申請書類について、応募の要件を満たしているかについて審査する。 なお、応募の要件を満たしていないものは、以降の審査の対象から除外される場合がある。
    2. 書類審査
      課題審査委員会の下に設置する産業利用分科会により、書類審査を実施する。
    3. 最終審査
      書類審査における評価を踏まえ、課題審査委員会において審査を実施し採択課題を決定する。
  4. 審査の観点
     審査(形式審査を除く)は、以下の観点に重点を置いて実施される。
    1. 科学技術における先端性を有すること
    2. 産業利用上の成果創出に資すること
    3. 課題分類の趣旨に合致すること
    4. 研究手段としてのSPring-8の必要性
    5. 実験内容の技術的な実施可能性
    6. 実験内容の安全性
  5. 利用者支援
     コーディネーター並びに産業利用支援グループが中心となり、課題毎に担当者をおき、 BL担当者の協力の下、全所的に利用者支援を実施した。支援の内容は、重点分野における実験環境の整備、 コーディネーター及びスタッフによる実験企画・準備、実験実施、実験解析に至る技術支援などからなる。
  6. 利用実験
     平成22年4月5日〜平成22年7月28日までに実施された利用実験課題である。
  7. 報告
     平成22年度2010A期の重点産業利用課題の成果報告は、平成23年度内に行う。
結果

以下に平成22年度2010A期の重点産業利用課題の応募・採択結果についてまとめる。

  1. 応募・採択結果

    表1. 募集時期及び研究機関別応募・採択結果
    募集時期 機関分類 応募数* 採択数* 採択率(%)
    第1回募集 学官
    34
    20
    58.8
    産業界
    58
    43
    74.1
    第2回募集 学官
    32
    18
    56.3
    産業界
    23
    16
    69.6
    *応募数・採択数には、一般課題に分類される下記の12条課題は除外している。
    第1回:5課題(学官:不採択なし)
    第2回:2課題(学官:不採択なし)


  2. 分類
    表2. 募集時期及び研究機関別・領域別採択結果
    募集時期 領域分類 産業界 学官 産学官合計
    第1回募集 産業基盤共通
    0
    1
    1
    新規利用者
    4
    1
    5
    新領域
    14
    2
    16
    先端技術開発
    25
    16
    41
    第2回募集 産業基盤共通
    0
    1
    0
    新規利用者
    4
    4
    8
    新領域
    2
    3
    5
    先端技術開発
    10
    10
    20


  3. 利用報告書の公開日延期
     2010A期で実施した課題について利用報告書公開日延期申請が提出された課題の内訳は次の通りである。
    ○公開日延長許可:12課題
     理由内訳(複数回答有り)
      a.知的財産権の取得のため:12課題
      b.事業への適用のため:2課題(いずれもa.知的財産取得と重複)
      c.その他の理由:0課題

    ○公開日延長不許可:1課題

     下記の表3は、公開日延期許可された課題を分野別に分類した結果を示す。

    表3. 分野別公開日延期許可課題
    分野 課題件数
    エレクトロニクス
    1
    環境・エネルギー
    9
    素材(金属・高分子等)
    2
    製薬・生活用品
    0
    その他
    0
    合計
    12


  4. 産官学の動向
    1. 研究機関
       本プログラムでは産業界にとって有効な利用手法の開発が産学官連携により 積極的に展開されるとの観点から、民間企業のみならず、大学等の公的部門から の応募も受け入れることにしている。民間企業が実験責任者の採択課題の割合は 2007A期より約60%から70%の間で推移している。2010A期の採択課題に占める民間 企業の割合は60.8%でこれまでにもっとも低かった2008A期とほぼ同じになった。 これは、表1に示すように第2回募集において民間企業の応募が学官からの応募 よりも少なかったことの影響と考えられる。これを反映して、第1回募集よりも 第2回募集の方が採択される民間企業の割合が低く、2010Aの第2回募集ではその 割合が約47 %(第1回は68%)である。これは、大学等のユーザーは一般課題と 同時に行われる第1回募集では、重点産業利用課題以外の制度を利用することに 加えて、課題申請を随時受け付けるBL14B2、BL19B2で実施中の測定代行が民間 企業ユーザーの新たな受け皿になり、より迅速な測定が必要なユーザーはそちら を利用するようになったためと考えている。
    2. 新規利用者
       新規利用者の課題はB期よりもA期が多い傾向があるが、2010A期で採択された 新規利用者の課題は2009B期と同じ13課題であった。この数は2008A期の19課題、 2009A期の20課題と比較してやや少なく、産業分野の利用が"拡大"から"定着"の 流れになりつつあることを示唆するものと考える。一方、放射光利用技術が必要 とされる産業分野、技術分野は年々変化するため新規利用者拡大は今後も必要な 活動テーマである。なお、新規利用者の内訳は民間企業が学官を上回り、産業界 の利用ニーズの発掘が有効に機能していることを示すものであると考える。
    3. 産業基盤共通
       複数の企業を含むグループが一体となって取り組む「産業基盤共通」の課題は、 表2に示す通り2010A期では合計2課題が採択され、いずれの課題も申請代表者が 学官の研究機関に所属している。産業基盤共通に分類される課題は2008B期まで は5-7件が採択されていたが、2009A期は3件、2009B期は4件、2010Aは2件と減少 傾向があきらかになった。これは、研究対象の具体化・細分化がすすみ共通する 研究テーマで複数の企業を含む研究グループを組織することが困難になってきた ことを示すものと考えている。
    4. 分野別分類
       図1は、申請代表者の申告に基づいて分類した分野別採択課題数を示している。 産学官の総計ではエレクトロニクス分野の課題が多く、次いで、環境・エネルギー 分野、素材分野の順である。エレクトロニクス分野は横ばい、もしくは若干減少 傾向である。この分野では学官の課題が増加傾向(特にA期の方がB期よりも多い 傾向があるが、原因は不明)である一方、民間企業の課題数が減少し環境・エネルギー 分野及び素材分野の民間企業の課題数を下回っている。これは、high-kゲート絶縁膜 など主要な開発テーマの研究が一段落したことに加え、大手LSIメーカー間での事業 統合が影響したものと考えている。環境・エネルギーの分野の課題はこれまでと同様 に増加傾向にあるが、今期は特に民間企業課題の増加が目立つ。これは、二次電池、 燃料電池、太陽電池などの新エネルギーデバイス開発が現在の民間企業の主要な開発 テーマになっていることを示すものである。

民間企業利用への効果

 図2は2010A期の共同利用研究実施課題(共用ビームラインで実施した課題)において、 民間企業に所属する実験責任者の課題数が全体の21%に達したことを示している。その内訳 は、重点産業利用課題が9.3%、成果専有課題が9.1%である。この2つを合わせて18.4%と なり、民間企業が共同利用研究課題で実施したもののうち、約88%が成果公開延期制度が ある重点産業利用課題あるいは成果専有課題の2つの利用制度で実施され、これら2つの利用 制度が旨く使い分けられていることが分かる。この結果は、本制度が民間企業に根付いてき ていることを示すものである。
 図も測定代行を含む成果専有課題と重点産業利用課題の割合が2008B期以降ほぼ一定である ことを示し、利用制度の使い分けが定着しつつあることが読み取れる。特に、成果専有課題 のうち測定代行の締める割合が増加していることは特筆に値する。図4は、利用技術分野別 (ビームライン別)民間企業実施課題数を応募課題分類を示しているが、産業利用T(BL19B2)、 産業利用U(BL14B2)、産業利用V(BL46XU)の3本のビームラインでは、成果専有課題の 割合が他のビームラインと比較して極端に多いことが分かる。特に、BL14B2では測定代行の 課題数が通常の成果専有課題を上回り、XAFSにおいては測定代行が新たなSPring-8利用の 制度として民間企業に根付きつつあることを示している。一方、成果専有課題や成果公開 優先利用課題の増加によって、重点産業利用課題に配分できるビームタイムが減少傾向に あるため、実験の効率化による採択率向上を目指した機器整備を行うことが一層必要に なっていると考えられる。


利用者アンケートの結果と今後の課題

 2010A期に実施した重点産業利用課題の実験責任者に対して2010年9月16日〜10月29日 を回答期間としWEBより回答を入力する形式のアンケートを実施した。2010A期を通じて 2課題以上を実施した実験責任者もいるため、アンケートを依頼した人数は89名であり、 59件の回答があった。今回のアンケートの回答率は約66%となり多くの利用者の意見を 反映したものと考えられる。
 図5、6は課題募集の時期、頻度についての回答結果である。これらの図が示すように12月 、3月、6月、9月に行っている課題募集期間と年4回募集は概ね評価されているが、"実験実施 前に課題募集が行われるため継続して申請しにくい"との意見もあった。この件は一年課題を 利用すればある程度解決すると考えられるが、現状では一年課題の申請は少なく、一年課題の 制度が産業分野の利用者にあまり認知されていないもと考えている。一年課題も含めて利用 制度の認知促進を更に進める必要がある。
 図7、8は利用前及び利用中の職員からの支援に対する評価である。これらの図が示すように、 利用前及び利用中の支援に対しては多くの利用者に満足してもらえていることがうかがえる。 一方で、"事前に電話等を通じての相談や打ち合わせを行ったが、初めての利用だったので思い 違いによる準備不足でマシンタイムを活かしきれなかった"との意見や、"測定後のデータ解析 について更なる支援が欲しい"との意見があった。前者については、研修会の開催頻度の増加、 後者については現在XAFS解析で行っているような講習会開催の頻度増や解析ツールの充実が 有効と考えられる。ビームタイムの事情もあって研修会、講習会の頻度を上げることはすぐ には難しいが、今後積極的な取り組みが必要と認識している。



図1. 重点産業利用課題における分野別採択課題数



図2. 2010A期 共同利用研究実施課題における民間企業の実験責任者の割合



図3. 民間企業による共同利用研究実施課題の課題分類別推移



図4. 2010A期 利用技術分野別(ビームライン別)民間企業実施課題数



図5. "募集の時期(12月、3月、6月、9月)は適切ですか"への回答



図6. "適切な課題募集の頻度は"への回答



図7. "利用前のSPring-8職員の技術相談等の支援は適切でしたか"への回答



図8. "利用実験時のSPring-8側の技術支援は適切でしたか"への回答

課題利用報告書

この成果報告書に掲載される課題報告書は、2010A利用期に実施された課題のうち、 利用報告書公開日延期申請許可となったものは除いている。

 
2010A1689 化粧品製剤への応用を目的としたリン脂質と高級アルコール混合物の相転移に関する研究 中川 泰治 クラシエホームプロダクツ株式会社
2010A1692 固体酸化物型燃料電池(SOFC)空気極-電解質界面のMEM-リートベルト解析による酸素、カチオン挙動の温度、酸素分圧依存性の考察 伊藤 孝憲 AGCセイミケミカル株式会社
2010A1693 塗布型有機薄膜太陽電池の高性能化に向けたデバイス構造評価 小島 優子 株式会社三菱化学科学技術研究センター
2010A1694 水熱条件下でのトバモライト生成過程のその場X線回折(6) 松野 信也 旭化成株式会社
2010A1695 走査型X線微分位相顕微鏡を用いた加熱処理毛髪の構造解析 井上 敬文 株式会社カネボウ化粧品
2010A1696 XAFSによる固体酸化物型燃料電池材料中遷移金属の価数の温度、酸素分圧依存性 伊藤 孝憲 AGCセイミケミカル株式会社
2010A1697 すれすれ入射X線回折による有機半導体薄膜結晶の構造解析 越谷 直樹 ソニー株式会社
2010A1698 In-situ XAFS を用いた金クラスター触媒生成過程の研究 大橋 弘範 九州大学
2010A1699 CO2レーザ照射によるファイバ融着接続における光ファイバ内部密度変化のSPring-8放射光光源を用いたX線マイクロCT観察による研究 小池 真司 日本電信電話株式会社
2010A1702 パーマネントウェーブ処理毛髪内に生成する混合ジスルフィド基のダメージに及ぼす影響 鈴田 和之 株式会社ミルボン
2010A1703 皮膚角層細胞からの超小角X線散乱測定による保湿剤の有効性評価 湯口 宜明 大阪電気通信大学
2010A1707 タングステンリサイクルにおけるモリブデン除去技術開発 飯原 順次 住友電気工業株式会社
2010A1708 すれすれ入射X線散乱法によるポリイミド薄膜表面の高次構造評価 馬路  哲 住ベリサーチ株式会社
2010A1709 パワーデバイスの金属/セラミックス接合部における内部応力分布の解析 木村 英彦 株式会社豊田中央研究所
2010A1714 硬X線励起光電子分光法によるステンレス347表面上に形成した不動態皮膜に含まれるSi酸化状態の非破壊分析 横溝 臣智 株式会社コベルコ科研
2010A1715 結晶弾性率測定法を用いたナノコンポジットの界面強度評価 2 岸本 浩通 住友ゴム工業株式会社
2010A1717 機能性シャンプーにおける粘度調整剤がおよぼすミセル構造の変化 荒木 秀文 株式会社資生堂
2010A1719 第一段高圧タービンブレードとして実機使用した単結晶Ni基超合金の損傷評価 近藤 義宏 防衛大学校
2010A1720 チップ部品実装基板のはんだ接合部における熱疲労損傷に対する初期発生ボイドの影響評価 岡本 佳之 コーセル株式会社
2010A1722 S K-edge XAFSを用いたポリマーの化学状態変化の解析 岸本 浩通 住友ゴム工業株式会社
2010A1723 非晶質ガラス中の微量結晶相の分析技術の調査 酒井 千尋 日本板硝子テクノリサーチ株式会社
2010A1725 相変化記録材料GeTe-Sb2Te3の構造相転移に関する研究 松永 利之 パナソニック株式会社
2010A1729 垂直磁化型磁壁移動メモリ用磁性細線の磁壁電流駆動観察 大嶋 則和 ルネサスエレクトロニクス株式会社
2010A1730 マイクロビーム小角X線散乱による水中の毛髪の膨潤挙動解析 梶浦 嘉夫 花王株式会社
2010A1731 硬X線光電子分光法による高分子フィルム表面の深さ方向分析 佐藤 和彦 帝人株式会社
2010A1732 硬X線光電子分光による金属シリサイドおよびフロロカーボン膜の解析 河瀬 和雅 三菱電機株式会社
2010A1733 硬X線光電子分光による窒化ガリウム系電子デバイスの表面状態解析 舘野 泰範 住友電気工業株式会社
2010A1734 硬X線光電子分光法によるフォトレジスト膜中の成分分布発生メカニズム解明 冨永 哲雄 JSR株式会社
2010A1738 硬X線光電子分光測定による酸化物系酸素還元触媒の電子状態解析 今井 英人 日本電気株式会社
2010A1739 X線吸収分光法を用いたイオン伝導型固体電解質スイッチの解析 今井 英人 日本電気株式会社
2010A1740 X線吸収分光法を用いた燃料電池酸素還元触媒の構造解析 今井 英人 日本電気株式会社
2010A1741 太陽電池用0.95-2.1eVバンドギャップ酸化物半導体光吸収薄膜の局所構造に関する研究 伊ア 昌伸 豊橋技術科学大学
2010A1742 理想電極界面を用いたリチウム電池充放電反応場における電極表面局所構造解析 菅野 了次 東京工業大学
2010A1744 軟X線フーリエ変換ホログラフィーによる垂直磁化膜磁気ドメインのその場観察 淡路 直樹 株式会社富士通研究所
2010A1746 伸張下におけるポリマー中のイオンクラスターの構造変化解析 間下  亮 住友ゴム工業株式会社
2010A1747 毛髪微小変形の粘弾性解析と構造因子の解明、及び人種間の差異の検証 萩原 基文 株式会社資生堂
2010A1748 XAFSを用いた固体高分子形燃料電池用酸化物系非白金酸素還元触媒の局所構造解析 石原 顕光 横浜国立大学
2010A1750 高分解能粉末X線回折法による酸化物系燃料電池触媒の精密構造解析 石原 顕光 横浜国立大学
2010A1752 SAXS法によるタンデムなデンプン結合ドメイン(SBD)/β-シクロデキストリン複合体の構造解析 西村 重徳 大阪府立大学
2010A1754 X線侵入深さ制御X線回折測定技術を用いたFeスケ−ル相変態深さ分布の評価によるスケ−ル剥離抑制技術の検討(3) 大塚 伸夫 住友金属工業株式会社
2010A1756 X線を用いた複合材−金属板界面の圧縮せん断挙動の可視化 竿本 英貴 株式会社豊田中央研究所
2010A1760 様々な条件下におけるCVD法とスパッタによるGeSbTe薄膜構造の解析 町田 英明 東京大学
2010A1763 時間分解X線回折法によるSUS430鋼のbreakaway現象in-situ観測 佐伯  功 室蘭工業大学
2010A1764 白色LED用リン酸塩蛍光体β-SrP2O6:Eu2+の局所構造と発光特性の調査 石垣  雅 新潟大学
2010A1771 放射光粉末X線回折による分子ジャイロコマの結晶格子の温度依存性解析 瀬高  渉 徳島文理大学
2010A1772 高分子有機材料に含まれる六価クロム抽出法の開発 沖  充浩 株式会社東芝
2010A1776 X線回折によるL10型FeNi超格子の構造評価 水口 将輝 東北大学
2010A1777 金属/High-k材料/Si基板における界面構造と電子状態の硬X線光電子分光法による評価 小川 慎吾 株式会社東レリサーチセンター
2010A1778 乗用車タイヤ用合成ゴムの加硫メカニズムの解明−環境適合性ゴム材料の設計のために− 池田 裕子 京都工芸繊維大学
2010A1779 粉末X線回折法を用いたリートベルト法による多相試料の定量分析法の開発と古代セラミックスの産地推定への応用 中井  泉 東京理科大学
2010A1780 硬X線光電子分光による有機EL素子の陰極の解析 簗嶋 裕之 住友化学株式会社
2010A1781 デンドリマー内包サブナノ貴金属クラスター触媒の製品化にむけたサイズ選択的合成法の開発 高木由紀夫 エヌ・イー ケムキャット株式会社
2010A1783 燃料電池用微細多孔体中の酸素拡散と液水挙動の同時計測手法構築 荒木 拓人 横浜国立大学
2010A1784 XAFSによる固体ヘテロポリ酸触媒の構造解析 下平 祥貴 昭和電工株式会社
2010A1785 CZシリコン結晶成長中の無転位化機構の検討−Dash-necking部分の転位の三次元分布− 飯田  敏 富山大学
2010A1787 白色LED用Eu2+添加蛍光体における転換電子収量法XAFSによる熱劣化に伴う蛍光体表面近傍での発光中心の価数変化の解析 國本  崇 徳島文理大学
2010A1788 固定化サブナノ金属クラスターの製品化に向けた簡便調製法の開発 金田 清臣 大阪大学
2010A1798 超電導機器応用を指向した実用超伝導線材の内部ひずみ測定技術の開発(一年課題) 菅野未知央 京都大学
2010A1799 金属表面と高分子の接着機構解析のためのXAFS実用化検討(一年課題) 岸本 浩通 住友ゴム工業株式会社
2010A1800 連続通水条件下での鉄バクテリア法砒素除去過程の観測試行(一年課題) 藤川 陽子 京都大学
2010A1831 水熱条件下でのトバモライト生成過程のその場X線回折(7) 松野 信也 旭化成株式会社
2010A1832 フレッシュコンクリートの微視的構造と粒子挙動の解明 李  柱国 山口大学
2010A1833 水溶液下さび還元過程の観察(3) 土井 教史 住友金属工業株式会社
2010A1844 Nb多量置換(Pb,La)(Zr,Ti)O3系圧電・光歪セラミックスの結晶・電子構造解析 伊藤 孝憲 AGCセイミケミカル株式会社
2010A1845 超平坦SiO2/Si界面において非等方に変調されたSiの逆格子マッピング測定 小椋 厚志 明治大学
2010A1846 光配向膜の上に形成した有機半導体薄膜の評価 藤枝 一郎 立命館大学
2010A1847 溶液合成法で作製した白色LED用蛍光体の発光中心の局所構造の研究 大倉  央 メルク株式会社
2010A1849 水和物結晶多形観測のための湿度変化下in-situ粉末X線回折測定技術の検証 菅原 洋子 北里大学
2010A1852 XAFSによるハイドロサイレーション反応過程の白金触媒の構造解析-その3 国谷 譲治 信越化学工業株式会社
2010A1853 量子効果を利用した極薄ペンタセン薄膜トランジスタの結晶構造評価 部家  彰 兵庫県立大学
2010A1854 硬X線光電子分光法を用いたMetal/a-InGaZnO構造の界面状態解析 安野  聡 株式会社神戸製鋼所
2010A1855 酸素分離膜および固体酸化物形燃料電池に用いるペロブスカイト酸素イオン伝導材料のin situ XAFS解析 高橋 洋祐 株式会社ノリタケカンパニーリミテド
2010A1857 末端を官能基修飾した高機能ゴム材料の開発(6) 湯淺  毅 JSR株式会社
2010A1858 熱イミド化過程におけるポリイミド薄膜表面の結晶化in-situ評価 馬路  哲 住ベリサーチ株式会社
2010A1859 高強度鋼の転動疲労下のはく離損傷および内部き裂形態の観察 牧野 泰三 住友金属工業株式会社
2010A1860 グラファイト基板表面における熱可塑性高分子薄膜の分子鎖凝集構造評価 小林 大悟 東レ株式会社
2010A1861 βサイアロン蛍光体の低温での発光中心構造解析 武田 隆史 独立法人物質材料研究機構
2010A1867 X線吸収微細構造測定によるEu添加GaNにおけるEuイオンの周辺局所構造 藤原 康文 大阪大学
2010A1871 希土類蛍光体代替材料中に共賦活された金属イオンのX線状態分析 北浦  守 山形大学
2010A1874 有機薄膜トランジスタの高性能化に向けた、有機多結晶膜の結晶子サイズと基板表面構造の相関の解析 中村 雅一 千葉大学
2010A1875 すれすれ入射X線回折による有機半導体蒸着膜の成長初期過程のリアルタイム観察 吉本 則之 岩手大学
2010A1876 高温酸化アルミナ皮膜の相変態挙動のその場観察と相変態に及ぼす各種金属元素の影響 林  重成 北海道大学
2010A1877 π共役系高分子薄膜における相転移挙動の直接観察 三崎 雅裕 神戸大学
2010A1879 混合錯体水素化物の水素放出反応における結晶構造変化の解析 則竹 達夫 株式会社豊田中央研究所
2010A1881 Liイオン2次電池電極材料用オリビン型酸化鉄粒子の充電および放電の繰り返しによる化学状態と局所構造の変化 藤枝  俊 東北大学
2010A1882 転換電子収量XAFSによる砒酸鉄粒子表面の局所構造解析 篠田 弘造 東北大学
2010A1883 多分岐高分子を原料とするカーボンアロイ型燃料電池正極触媒における酸素還元反応の活性化機構解明 原田 慈久 東京大学
2010A1884 アバランシェ増倍を利用した超高感度HARP光電変換膜における正孔注入阻止機構の解析 菊地 健司 NHK放送技術研究所
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