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平成22年度 SPring-8 重点産業利用課題成果報告書(2010B)
目次

1. はじめに
2. 公募の内容
3. 成果公開の考え方
4. 実施の経緯と流れ
5. 結果
6. 民間企業利用への効果
7. 利用者アンケートの結果と今後の課題
8. 課題利用報告書
* 送付を希望される方は、連絡先(氏名、所属、〒住所、E-mail)をご記入の上、 事務局 support@spring8.or.jp までE-mailでご連絡ください。

はじめに

 産業利用の更なる促進を目的に、平成17年度(2005B期)より文部科学省のプログラムとして先端大型研究施設 戦略活用プログラム(戦略活用プログラム)が実施されて支援体制の整備が進み、利用実績も増加すると共に 産業利用推進室の活動も軌道に乗ってきた。平成19年度(2007A期)から、重点産業利用課題は領域指定型の 重点研究課題の一つとして承認され、先に実施された戦略活用プログラムを継承する施策として位置付けて実施 されている。

公募の内容
  1. 公募の分類
     本プログラムで募集する課題は「新規利用者」、「新領域」、「産業基盤共通」と「先端技術開発」の4つに 分類している。
     「新規利用者」とは、申請代表者が、これまで、一般課題への応募などを含め、SPring-8を利用した ことのない利用者を指している。但し、事業規模が相当程度大きく事業範囲が多岐に及ぶ企業で、これらの 企業が既に利用している場合には、既に利用している事業分野とは異なる新規分野からの新たなユーザーであれ ば、「新規利用者」として認めている。
     「新領域」とは、申請者の利用経験に関係なく、これまでSPring-8で実施されたことがない産業領域、あるい は、近年開発された新手法を用いることによって新たな展開が可能になる産業領域を指している。新領域の例示 を下記に示しているが、これ以外でも新規性が認められる研究領域であれば、新領域の対象になる。

       ○コンクリート等建築資材⇒三次元内部構造をX線CTによる撮影
       ○ヘルスケア⇒毛髪や皮膚の構造をX線回折・散乱及び透視画像で解析
       ○医薬品原薬⇒粉末X線回折による構造解析
       ○硬X線光電子分光法⇒薄膜材料の内部界面の状態解析
       ○環境負荷物質微量分析⇒大気・水などの重金属汚染物質の化学状態
       ○耐腐食構造材⇒金属材料の表層やサビの構造・状態分析
       ○高密度記録装置⇒DVD、HDD等の新規記録材料の薄膜構造・状態分析

     「産業基盤共通」とは、それぞれの産業分野に共通する課題を解決する目的、あるいは産業利用に有効な手法 の共同開発を目的として、複数の企業を含むグループが一体となって取り組むもので、新計測技術の確立、共通 課題のデータベース化等を図る研究を指している。申請代表者が複数の企業を含むグループを取りまとめて、1つ の課題として申請して頂く。ここで言う「複数の企業」とは、それぞれ参加する企業が同等かつ独立に成果を 利用できる関係にあることを想定している。したがって、産学官連携の研究グループによる利用の場合には、学 と官は「複数の企業」としてカウントされない。
     「先端技術開発」とは、ユーザーが実施するイノベーション型の技術開発課題で、成果の企業業績への貢献、 あるいは社会還元を目指した研究を指している。

  2. 公募の回数
    BL19B2(産業利用T)、BL14B2(産業利用U)、BL46XU(産業利用V)の3本のビームラインは、2007B期から課題 公募を2回に分けて実施している。これら3本の産業利用ビームラインを除く共用ビームラインのうち、重点産業利 用課題にビームタイムを割り当てた対象ビームラインでは、これまで通り、2010A期の課題公募では1回である。

成果公開の考え方

SPring-8を利用して得られた実験・解析結果及び成果は、以下の利用報告書に取りまとめて提出してもらう。

  1. 利用報告書Experiment Report(英文または和文)
    利用終了日から60日以内にオンライン提出。
  2. 重点産業利用課題報告書(原則和文)
    課題採択後に利用業務部より送付される文書に記載されている締切日までに提出。 なお、提出方法は「電子データ(原則としてMSワード)」を電子メールまたは郵送で所定の宛先に提出。

 上記の2010B期の報告書のうち「利用報告書Experiment Report」は2010B期終了後60日目から2週間後 にWeb上で公開される。「重点産業利用課題報告書」は印刷公表とする。ただし、利用者が提出した報告 書について、製品化や特許取得などの理由により公開の延期を希望する場合は、財団法人高輝度光科学 研究センターが適当と認めた場合に限り最大2年間延期することができる(2つの報告書自体は、締切日 までに必ず提出してもらう)。また、公開延期期間満了時には、公開延期を認められた申請時の理由に 対して、結果・成果等をまとめて報告をしてもらう。

実施の経緯と流れ
  1. 重点領域の指定
     重点産業利用課題が領域指定型の重点研究課題として、平成19年1月26日に重点領域推進委員会で 平成19年度と平成20年度の2年間指定を受けた。さらに平成20年10月2日の第6回選定委員会で平成23 年度までの継続が承認され、重点産業利用課題は領域指定型の重点研究課題(公募)として実施され ている。
  2. 課題選定
     課題の選考は、学識経験者、産業界等の有識者から構成される「利用研究課題審査委員会」 (以下「課題審査委員会」という。)により実施される。課題審査委員会は、「重点産業利用領域」 として領域指定された趣旨に照らして優秀と認められる課題を選定する。
     審査は非公開で行われるが、申請課題との利害関係者は当該課題の審査から排除される。また、 各委員は委員として取得した一切の情報を委員の職にある期間だけでなくその職を退いた後も第三者 に漏洩しないこと、情報を善良な管理者の注意義務をもって管理すること等の秘密保持を遵守するこ とが義務付けられている。
  3. 審査の手順
     審査は以下の手順により実施される。
    1. 形式審査
      提出された申請書類について、応募の要件を満たしているかについて審査する。 なお、応募の要件を満たしていないものは、以降の審査の対象から除外される場合がある。
    2. 書類審査
      課題審査委員会の下に設置する産業利用分科会により、書類審査を実施する。
    3. 最終審査
      書類審査における評価を踏まえ、課題審査委員会において審査を実施し採択課題を決定する。
  4. 審査の観点
     審査(形式審査を除く)は、以下の観点に重点を置いて実施される。
    1. 科学技術における先端性を有すること
    2. 産業利用上の成果創出に資すること
    3. 課題分類の趣旨に合致すること
    4. 研究手段としてのSPring-8の必要性
    5. 実験内容の技術的な実施可能性
    6. 実験内容の安全性
  5. 利用者支援
     コーディネーター並びに産業利用支援グループが中心となり、課題毎に担当者をおき、 BL担当者の協力の下、全所的に利用者支援を実施した。支援の内容は、重点分野における実験環境の整備、 コーディネーター及びスタッフによる実験企画・準備、実験実施、実験解析に至る技術支援などからなる。
  6. 利用実験
     平成22年10月〜平成23年2月までに実施された利用実験課題である。
  7. 報告
     平成22年度2010B期の重点産業利用課題の成果報告は、 9月に開催する「第8回産業利用報告会」において2010A期の課題とともに口頭及びポスター形式で報告する。
結果

以下に平成22年度2010B期の重点産業利用課題の応募・採択結果についてまとめる。

  1. 応募・採択結果

    表1. 募集時期及び研究機関別応募・採択結果
    募集時期 機関分類 応募数* 採択数* 採択率(%)
    第1回募集 学官
    41
    32
    78.0
    産業界
    56
    46
    82.1
    合計
    97
    78
    80.4
    第2回募集 学官
    26
    10
    38.5
    産業界
    26
    12
    46.2
    合計
    52
    22
    42.3
    総計
    149
    100
    67.1
    *応募数・採択数には、一般課題に分類される下記の12条課題は除外している。
    第1回:1課題(学官:不採択なし)
    第2回:3課題(学官:2課題不採択)


  2. 分類
    表2. 募集時期及び研究機関別・領域別採択結果
    募集時期 領域分類 産業界 学官 産学官合計
    第1回募集 産業基盤共通
    0
    4
    4
    新規利用者
    3
    1
    4
    新領域
    12
    5
    17
    先端技術開発
    32
    20
    52
    合計
    47
    30
    77
    第2回募集 産業基盤共通
    0
    0
    0
    新規利用者
    2
    0
    2
    新領域
    2
    1
    3
    先端技術開発
    8
    8
    16
    合計
    12
    9
    21
    *注)"新規利用者"もしくは"産業基盤共通"で申請されたものの要件を満たしていない課題は "先端技術開発"に再分類して審査を行った。表2の値は再分類の結果を反映したものである。


  3. 利用報告書の公開日延期
     2010B期で実施した課題について利用報告書公開日延期申請が提出された課題の内訳は次の通りである。
    ○公開日延長許可:19課題
     理由内訳(複数回答有り)
      a.知的財産権の取得のため:16課題
      b.事業への適用のため:8課題(うち5課題は、a.知的財産取得と重複)
      c.その他の理由:2課題(いずれもa.知的財産取得と重複)

    ○公開日延長不許可:なし

     下記の表3は、公開日延期許可された課題を分野別に分類した結果を示す。

    表3. 分野別公開日延期許可課題
    分野 課題件数
    エレクトロニクス
    5
    環境・エネルギー
    4
    素材(金属・高分子等)
    6
    製薬・生活用品
    4
    その他
    0
    合計
    19


  4. 産官学の動向
    1. 研究機関
       本プログラムでは産業界にとって有効な利用手法の開発が産学官連携により積極的に 展開されるとの観点から、民間企業のみならず、大学等の公的部門からの応募も受け 入れることにしている。民間企業が実験責任者の採択課題の割合は2007A期より 約60%から70%の間で推移している。2010B期の採択課題に占める民間企業の割合は 58.0%と最も低くなった。1年前の2009B期と比較した場合、第2回の募集では、 民間企業、学官ともに2009B期と2010B期で大きな差はないが、第1回募集では 民間企業からの応募が2009B期の74から2010B期では56に減少する一方で学官からの 応募が前年並みだったことを反映して、採択課題でも学官の割合が高くなったことが 主な要因である。民間企業からの応募の減少の理由は、XAFS測定代行に加えて 2010年度よりBL19B2の粉末X線回折測定代行が本格実施により迅速な測定が必要な 企業ユーザーはそちらを利用するようになったためと考えている。
    2. 新規利用者
      新規利用者の課題はB期よりもA期が多い傾向があるが、2010B期で採択された 新規利用者の課題は2010A期の13課題から大幅に減少し6課題であった。 新規利用者の採択課題数は08A期以降減少傾向にあったが、それが一層明瞭になり、 産業分野の利用が"拡大"から"定着"の流れになりつつあることを示唆するものと 考える。一方、放射光利用技術が必要とされる産業分野、技術分野は年々変化する ため新規利用者拡大は今後も必要な活動テーマである。なお、新規利用者の内訳は 民間企業が学官を上回り、産業界の利用ニーズの発掘が有効に機能していることを 示すものであると考える。しかしながら、産業界の新規利用者の採択率は57%と 全体の平均よりも10%程低く、産業界の新規利用者に対して何らかの対応が必要に なりつつあるものと考える。
    3. 産業基盤共通
       複数の企業を含むグループが一体となって取り組む「産業基盤共通」の課題は、 表2に示す通り2010B期では第一回の募集で4課題が採択された。 採択された課題はいずれも申請代表者が学官の研究機関に所属している。 産業基盤共通に分類される課題は2008B期までは5-7件が採択されていたが、 2009A期は3件、2009B期は4件、2010Aは2件と減少傾向であったが、今回の採択は 4件で減少に歯止めがかかった。採択された4件のうち3件は素材分野であり、 他分野よりも共通技術が多い産業分野であるものと思われる。
    4. 分野別分類
      図1は、申請代表者の申告に基づいて分類した分野別採択課題数を示している。 産学官の総計ではエレクトロニクス分野(EL)の課題が多く、次いで、素材分野(MA)、 環境・エネルギー分野(EN)の順である。産業界だけに限れば、素材分野(MA)、 エレクトロニクス分野(EN)、環境・エネルギー分野の順であり、10年前は放射光利用の 中心であったエレクトロニクス分野の減少が明瞭になった。なお、これまで年々順調に 増加してきた環境・エネルギー分野の減少が初めて見られた。この分野に属する二次電池、 燃料電池、太陽電池などの新エネルギーデバイス開発は官民問わず国家的な技術開発テーマ であるにも関わらず産業界の減少が目立つ。この分野での産業界の重点産業利用課題の 減少の原因は、二次電池や燃料電池開発で広く用いられているXAFSや粉末X線回折の利用が、 民間企業においては重点産業利用から測定代行に移行したものと考えている。

民間企業利用への効果

 図2は2010B期の共同利用研究実施課題(共用ビームラインで実施した課題)において、 民間企業に所属する実験責任者の課題数が全体の21.3%に達したことを示している。 その内訳は、重点産業利用課題が7.6%、成果専有課題が10.9%である。この2つを合わせて1 8.5%となり、民間企業が共同利用研究課題で実施したもののうち、約87%が成果公開延期制度 のある重点産業利用課題あるいは成果専有課題の2つの利用制度で実施され、これら2つの 利用制度が旨く使い分けられていることが分かる。この結果は、本制度が民間企業に根付い てきていることを示すものである。なお、2010A期までは重点産業利用課題が成果専有課題を 上回っていたが2010B期ではそれがはじめて逆転した。これは、XAFS及び粉末X線回折の測定代行 の増加が主な要因であり、測定代行が民間企業ユーザーに受け入れられつつあることを示すものである。
 図3も測定代行を含む成果専有課題と重点産業利用課題の割合が2008B期以降ほぼ一定であることを 示し、利用制度の使い分けが定着しつつあることが読み取れる。図4は、利用技術分野別 (ビームライン別)民間企業実施課題数の応募課題分類を示しているが、産業利用T(BL19B2)、 産業利用U(BL14B2)、産業利用V(BL46XU)の3本のビームラインでは、成果専有課題の割合が 他のビームラインと比較して極端に多いことが分かる。特に、BL14B2とBL19B2では測定代行の 課題数が通常の成果専有課題を上回り、測定代行が新たなSPring-8利用の制度として民間企業に 根付きつつあることを示している。一方、成果専有課題や成果公開優先利用課題の増加によって、 重点産業利用課題に配分できるビームタイムが減少傾向にあるため、実験の効率化による 採択率向上を目指した機器整備を行うことが一層必要になっていると考えられる。


利用者アンケートの結果と今後の課題

 2010B期に実施した重点産業利用課題の実験責任者に対して2011年5月10日〜5月31日を 回答期間としWEBより回答を入力する形式のアンケートを実施した。2010B期を通じて2課題 以上を実施した実験責任者もいるため、アンケートを依頼した人数は79名であり、53件の 回答があった。今回のアンケートの回答率は約67%となり多くの利用者の意見を反映した ものと考えられる。
  図5、6は課題募集の時期、頻度についての回答結果である。これらの図が示すように12月、 3月、6月、9月に行っている課題募集期間と年4回募集は概ね評価されている。一方で、 "第2回募集は第1回募集よりビームタイムが少なく採択率が下がるため、平準化を希望する。" との指摘があった。この指摘は当を得たものであるが、蓄積リングの運転日程や課題募集と 審査に要する時間を考慮すると、ビームタイム平準化への即事対応は容易ではない。第2回募集 の採択率低下の要因は、5.結果 1) 応募、採択結果 で記載した成果公開優先課題や 成果専有課題の増加に加えて、一年課題によるビームタイムの先行確保も影響している。 実施された一年課題の成果創出状況をよく吟味し、利用機会の確保の観点からも一年課題の 有効性を検討する必要があると思われる。
 図7、8は利用前及び利用中の職員からの支援に対する評価である。これらの図が示す ように、利用前及び利用中の支援に対しては多くの利用者に満足してもらえていること がうかがえる。なお、これらの図が示すように少数ではあるが利用前の技術相談等の支援 について"支援は不適切だった"、"支援を受けなかった"とする回答があり、実験前の事前 準備に対する支援の更なる充実が必要であることを示す結果であった。
図9は重点産業利用課題の制度継続希望の回答結果である。95%以上が"現状のまま継続" もしくは"拡大"を希望と回答し、産業分野の利用者にとって有効な制度と評価されている ものと考えられる。



図1. 重点産業利用課題における分野別採択課題数



図2. 2010A期 共同利用研究実施課題における民間企業の実験責任者の割合



図3. 民間企業による共同利用研究実施課題の課題分類別推移



図4. 2010A期 利用技術分野別(ビームライン別)民間企業実施課題数



図5. "募集の時期(12月、3月、6月、9月)は適切ですか"への回答



図6. "適切な課題募集の頻度は"への回答



図7. "利用前のSPring-8職員の技術相談等の支援は適切でしたか"への回答



図8. "利用実験時のSPring-8側の技術支援は適切でしたか"への回答



図9."重点産業利用課題に類した制度の継続を希望されますか"への回答

課題利用報告書

この成果報告書に掲載される課題報告書は、2010B利用期に実施された課題のうち、 利用報告書公開日延期申請許可となったものは除いている。

 
2010B1763 X線高速/高分解能イメージングのためのキャピラリコンデンサの開発 青山 朋樹 株式会社堀場製作所
2010B1764 水熱条件下でのトバモライト生成過程のその場X線回折(8) 松野 信也 旭化成株式会社
2010B1765 La-Co置換フェライトのFe,Co L吸収端におけるXMCD温度依存性測定 小林 義徳 日立金属株式会社
2010B1767 多結晶体NiZnフェライトにおける磁区構造の微細構造依存性に関する研究 河野 健二 太陽誘電株式会社
2010B1769 コンクリートのひび割れの自己修復過程の直接観察 人見  尚 株式会社大林組
2010B1770 すれすれ入射X線回折による有機半導体薄膜結晶の構造解析 越谷 直樹 ソニー株式会社
2010B1774 ニトリル化合物の水素化による一級アミンの選択的合成用触媒の開発 高木由紀夫 エヌ・イー ケムキャット株式会社
2010B1775 塗布型有機半導体薄膜の加熱による構造形成過程 小島 優子 株式会社三菱化学科学技術研究センター
2010B1777 X線マイクロCTによる毛髪内階層構造の可視化 梶浦 嘉夫 花王株式会社
2010B1779 マイクロビーム小角X線散乱による湿度変化に伴う毛髪構造変化の解析 梶浦 嘉夫 花王株式会社
2010B1780 酸素還元能を有する炭素薄膜における活性点構造のXAFS測定による分析 丸山  純 地方独立行政法人大阪市立工業研究所
2010B1781 化合物薄膜太陽電池における価電子帯構造および光吸収層/バッファ層界面の硬X線分光分析 高橋 直子 株式会社豊田中央研究所
2010B1782 機能性シャンプーにおける粘度調製剤がおよぼすミセル構造の変化 荒木 秀文 資生堂株式会社
2010B1783 軟X線MCDによるネオジム磁石結晶粒界の選択的磁気構造解析 広沢  哲 日立金属株式会社
2010B1784 In-situ XAFS を用いた担持金クラスター触媒における金属酸化物の酸化還元挙動に関する研究 大橋 弘範 九州大学
2010B1786 超微細粒組織を有する純アルミニウムが示す特異な力学現象中の転位密度その場測定 辻  伸泰 京都大学
2010B1787 時分割超小角X線散乱法を用いたシリカ配合ゴム中のシリカ凝集抑制法の開発 網野 直也 横浜ゴム株式会社
2010B1788 低温作動型燃料電池用材料の結晶構造変化 伊藤 孝憲 AGCセイミケミカル株式会社
2010B1789 CIGS太陽電池用バンドギャップ制御酸化物半導体バッファ層の局所構造に関する研究 伊ア 昌伸 豊橋技術科学大学
2010B1790 皮膚角層細胞間脂質のリアルタイム変化に着目した外用剤・化粧料・経皮吸収型製剤の開発 小幡 誉子 星薬科大学
2010B1791 X線吸収分光法を用いたイオン伝導型固体電解質スイッチの解析 今井 英人 日本電気株式会社
2010B1792 X線吸収分光法による酸化物系カソード材料の局所構造解析 今井 英人 日本電気株式会社
2010B1793 高分解能粉末X線回折法による酸化物系カソード材料の精密構造解析 今井 英人 日本電気株式会社
2010B1795 選択的水素化分解用金属ナノ粒子触媒の実用化に向けた微細構造解析 金田 清臣 大阪大学
2010B1799 XAFSによるEu賦活ケイ酸塩蛍光体のEu原子価の解析(1) 田所 大典 住友化学株式会社
2010B1800 硬X線光電子分光法を用いたLi/Naイオン電池用電極材料のバルク構造と表面構造に関する研究 駒場 慎一 東京理科大学
2010B1802 溶液に浸積した皮膚角層細胞からの超小角X線散乱測定による構造評価 湯口 宜明 大阪電気通信大学
2010B1803 水和物結晶多形観測のための湿度変化下in-situ粉末X線回折測定技術の検証II 菅原 洋子 北里大学
2010B1804 ピンポイントX線トポグラフィーの開発 山口 博隆 産業技術総合研究所
2010B1806 Rietveld解析による層状Cr化合物の構造相転移に関する研究 野崎  洋 株式会社豊田中央研究所
2010B1808 新たな天然系高分子材料開発のためのシルクタンパク質薄膜の表面構造解析 小林 一稔 日立化成工業株式会社
2010B1810 熱イミド化過程におけるポリイミド薄膜表面の結晶化in-situ評価(2) 馬路  哲 住ベリサーチ株式会社
2010B1811 X線吸収微細構造を用いた金属含有ナノ粒子の酸化状態評価 木本  成 株式会社島津製作所
2010B1812 高速通水条件下での生物ろ過法による砒素・鉄処理過程のリアルタイムXAFS測定 藤川 陽子 京都大学
2010B1813 垂直磁化型磁壁移動メモリ用磁性細線の磁壁電流駆動その場観察 大嶋 則和 ルネサスエレクトロニクス株式会社
2010B1817 理想電極界面を用いたリチウム電池充放電反応場における電極表面局所構造解析 菅野 了次 東京工業大学
2010B1818 硬X線光電子分光法によるリチウム電池電極表面状態の解析 菅野 了次 東京工業大学
2010B1819 ポリマーの化学状態解析のためのS K-edge XAFS法の研究 岸本 浩通 住友ゴム工業株式会社
2010B1820 Lu2SiO5単結晶の方位測定 八木 康洋 日立化成工業株式会社
2010B1824 異常分散を用いたX線回折によるハーフメタルホイスラー合金の構造及び原子規則状態の研究 桜庭 裕弥 東北大学
2010B1826 試料電流法XAFSによる固液界面のイオン状態評価 飯原 順次 住友電気工業株式会社
2010B1827 相変化記録材料Sb-Teの構造相転移に関する研究 松永 利之 パナソニック株式会社
2010B1828 硬X線光電子分光によるバリウム/導電性高分子界面の解析 池内 淳一 住友化学株式会社
2010B1831 実機使用した第一段タービンブレードの放射光による余命推定技術の確立(一年課題) 近藤 義宏 防衛大学校
2010B1832 超電導機器応用に向けた実用超伝導線材の不均一性に関連した応力/ひずみ問題の解明(一年課題) 菅野未知央 京都大学
2010B1833 レーザー溶接時の溶融池内対流現象のリアルタイム観察 山田 知典 独立行政法人日本原子力研究開発機構
2010B1835 球状黒鉛鋳鉄の凝固過程の観察 佐藤 彰洋 株式会社IHI
2010B1839 白色X線マイクロビーム、
二次元検出器と半導体検出器を用いたステンレス鋼の結晶粒界応力分布測定 ―結晶粒毎の応力分布の冷間加工度依存性―
有岡 孝司 株式会社原子力安全システム研究所
2010B1840 PbO系およびBi2O3系ホウ酸塩ガラスのXAFS構造解析 紅野 安彦 岡山大学
2010B1841 X線と中性子小角散乱法を併用した合金コントラスト変調法による自動車用鉄鋼材料における微細組織の定量的解析 大場洋次郎 独立行政法人物質・材料研究機構
2010B1842 回折コントラストイメージを用いた結晶3Dマッピング法の開発(一年課題) 中井 善一 神戸大学
2010B1843 HAXPESおよびXRDによる2段階酸化法を用いて作製された高信頼シリコン酸化膜の評価 小椋 厚志 明治大学
2010B1844 X線吸収微細構造測定によるEu添加GaNにおける Euイオンの周辺局所構造(II) 藤原 康文 大阪大学
2010B1847 硬X線光電子分光による窒化ガリウム系電子デバイスの表面状態解析(II) 舘野 泰範 住友電気工業株式会社
2010B1848 シンクロトロンX線から明らかにするナノフィラーのアモルファスゴムへの補強効果−21世紀の超高性能ゴム材料設計を目指して− 池田 裕子 京都工芸繊維大学
2010B1850 異常分散効果を利用したX線回折によるプロトン伝導性バリウムジルコネート格子中におけるドーパントのサイト分布決定 篠田 弘造 東北大学
2010B1851 X線吸収分光を用いた多孔質酸化鉄粒子の局所構造および砒素吸着に及ぼす熱処理影響解析 篠田 弘造 東北大学
2010B1855 粉末X線回折法を用いたリートベルト法による多相試料の定量分析法の開発と古代セラミックスの産地推定への応用(2)〜 古代流通ネットワークの構築 中井  泉 東京理科大学
2010B1857 中国焼却灰のセメント原料化のための放射光XRDによる塩素化合物の同定 島岡 隆行 九州大学
2010B1858 マイクロデバイスに集積化したメタン燃焼触媒のin situ XAFS分析 西堀麻衣子 独立行政法人産業技術総合研究所
2010B1859 高強度鋼の転動疲労下のはく離損傷および内部き裂形態の観察(一年課題) 牧野 泰三 住友金属工業株式会社
2010B1861 新規センシング材料を指向するジフェニルアントラセンスルホン酸塩包接結晶の粉末X線回折による相転移解析 藤内 謙光 大阪大学
2010B1863 硬X線光電子分光法による金属電極/GeO2絶縁膜界面反応の解析 小川 慎吾 株式会社東レリサーチセンター
2010B1864 コーテッド多層超伝導複合材料におけるひずみの評価 奥田 浩司 京都大学
2010B1922 水熱条件下でのトバモライト生成過程のその場X線回折(9) 松野 信也 旭化成株式会社
2010B1926 酸素透過膜および固体酸化物形燃料電池に用いるAg触媒複合化したペロブスカイト酸素イオン伝導材料のin situ XAFS解析 高橋 洋祐 株式会社ノリタケカンパニーリミテド
2010B1927 ナノ粒子上に被覆した酸素還元能を有する炭素薄膜における活性点構造のXAFS測定による分析 丸山  純 地方独立行政法人大阪市立工業研究所
2010B1928 放射光と中性子で明らかにするゴムの加硫機構に関する研究 −環境適合性ゴム製品設計のために− 池田 裕子 京都工芸繊維大学
2010B1929 新規センシング材料を指向するジフェニルアントラセンスルホン酸塩包接結晶相転移の放射光粉末X線回折による精密解析 藤内 謙光 大阪大学
2010B1933 XAFSによるEu賦活ケイ酸塩蛍光体のEu原子価の解析(2) 田所 大典 住友化学株式会社
2010B1934 放射光粉末X線光回折によるリチウムイオン電池電極用プルシアンブルー類似体材料の局所構造解析 朝倉 大輔 独立行政法人産業技術総合研究所
2010B1937 バルク敏感硬X線光電子分光による新規高容量リチウムイオン電池正極材料のLi脱挿入に伴う電子状態変化・酸化還元反応の研究 朝倉 大輔 独立行政法人産業技術総合研究所
2010B1939 方位角異方性に優れた配向膜の開発(2) 冨永 哲雄 JSR株式会社
2010B1941 鈴木カップリング用固定化分子触媒の開発 高木由紀夫 エヌ・イー ケムキャット株式会社
2010B1942 X線回折によるL10型FeNi超格子の構造評価 水口 将輝 東北大学
2010B1951 都市ごみ処理飛灰のキレート剤による重金属溶出抑制機構の解明 原田 浩希 日立造船株式会社
2010B1956 バイオマス由来化合物の選択的変換用固定化金属ナノ粒子触媒の開発 金田 清臣 大阪大学
2010B1962 X線吸収微細構造測定によるEu添加GaNにおけるEuイオンの周辺局所構造(III) 藤原 康文 大阪大学
2010B1968 銅含有Li2MnO3の充電反応に伴うその場XANES測定による電子状態変化 荒地 良典 関西大学
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