13:00〜
13:40 |
「ストレージデバイスの現状と今後の動向」
押木満雅（富士通研究所） |
| 磁気ディスク装置（HDD）用薄膜磁気ヘッド、記録媒体および光磁気ディスク装置（MO）用光磁気記録媒体では、膜厚〜10nmの磁性や非磁性薄膜を積層してそれぞれのデバイス機能を実現している。現在、更なる、薄膜化・多層化による高性能化が進められており、極薄膜形成技術および評価技術がデバイス完成のためにますます重要な技術となっている。 |
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13:40〜
14:20 |
「GMR多層膜の積層構造の精密評価」
淡路直樹（富士通研究所） |
| 近年の磁気ディスク読み取りヘッドには高感度のＧＭＲ（巨大磁気抵抗）ヘッドが用いられている。その構造は、数nmの薄膜の積層膜からなるスピンバルブ構造が主流である。その磁気特性は、膜厚、界面凹凸、界面拡散などに影響を受ける。放射光を用いたＸ線反射率や蛍光データを解析することにより、上記の膜パラメータを評価することが可能になることを報告する。 |
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14:20〜
15:00 |
「磁性膜の結晶配向と磁化特性」
大沢通夫（富士電機総合研究所） |
| HDD用磁気記録媒体は、ディスク上に、10?20nm程度の厚さのCo系磁性膜を形成したもので、磁性膜の薄膜化、結晶粒の微細化と共に、Co結晶のc軸（磁化容易軸）を、記録方向に優先配向させることが重要である。放射光を利用したＸ線面内回折法で、結晶配向の評価を行い、磁気特性との関連などを調べてきた内容を紹介する。 |
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15:00〜
15:15 |
休憩 |
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15:15〜
15:55 |
「GaInN発光層のXAFSによる局所構造解析」
工藤喜弘（ソニー） |
| 次世代高密度光記録システム用ピックアップなどの利用が期待されている青色LDの活性層に用いられるGaInN混晶の局所構造解析をX線吸収微細構造(XAFS)法により実行し、Inの周りの近接原子間距離やInの偏析に関する情報を得た。 |
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15:55〜
16:35 |
「高速相変化光記録材料の結晶構造」
松永利之（松下テクノリサーチ） |
| 高速相変化光記録に適する材料は、何れも消去状態（結晶）において、複数の元素がランダムに配列した単純立方晶で近似できる。これらは高温、つまり格子振動が激しくなっても結晶を維持し続けるが、結晶（消去）／非晶質（記録）相転移温度近傍では双方の構造に殆ど差がなくなり、相転移が短時間で完了するものと推定される。 |
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16:35〜
16:45 |
「SPring-8課題申請について」
古宮聰（高輝度光科学研究センター） |
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