No |
タイトル |
発表者 |
T1 |
マイクロビームX線を用いたヒト毛髪キューティクルの構造解析 |
井上 敬文((株)カネボウ化粧品) |
T2 |
皮膚角層中の細胞間脂質の基本構造とそれに基づくバリアー機能の解明への展開 |
八田 一郎(福井工業大学) |
T3 |
透過法XRD測定による混合アルカリ塩化物融体の構造解析 |
梶並 昭彦(神戸大学) |
T4 |
ポリ乳酸の結晶化と融解 |
河井 貴彦(京都大学) |
T5 |
水素貯蔵材料の結晶構造解析 |
則竹 達夫((株)豊田中央研究所) |
T6 |
XAFS法による水素貯蔵材料に添加した触媒の化学状態分析【口頭発表あり】 |
市川 貴之(広島大学) |
T7 |
放射光を利用した燃料電池触媒電極の構造評価 |
今井 英人(日本電気(株)) |
T8 |
XAFS測定による酸化チタン担持金触媒の化学構造解析 |
川端 竜也((株)日本触媒) |
T9 |
XAFSによる新規PDP用青色蛍光体CaMgSi2O6:Euの発光中心の解析【口頭発表あり】 |
國本 崇(徳島文理大学) |
T10 |
白色LED用緑色蛍光体Ca3Sc2Si3O12:Ceの発光特性と局所構造【口頭発表あり】 |
下村 康夫((株)三菱化学科学技術研究センター) |
T11 |
XAFSによる青色蛍光体BAMの輝度劣化に関する検討 |
広沢 一郎(JASRI) |
T12 |
XAFSによるPET用シンチレータ材料の局所構造評価 【口頭発表あり】 |
八木 康洋(日立化成工業(株)) |
T13 |
放射光を利用した太陽電池用多結晶シリコンの評価【口頭発表あり】 |
大下 祥雄(豊田工業大学) |
T14 |
微小角入射X線散乱法によるhigh-k膜の構造評価 |
竹村 モモ子((株)東芝) |
T15 |
微小角入射X線小角散乱法によるCu配線用Low−k層間絶縁膜の空孔分布評価 |
淡路 直樹((株)富士通研究所) |
T16 |
磁気ディスク表面のナノ有機薄膜としての潤滑剤の研究:放射光X線による膜厚と吸着状態の解析 |
若林 明伸((株)松村石油研究所) |
T17 |
微小角入射X線回折による液晶配向膜表面構造の解析【口頭発表あり】 |
平野 幸夫(チッソ石油化学(株)) |
T18 |
薄膜構造評価用X線回折装置ATX-GSORの利用事例 |
北野 彰子(JASRI) |
T19 |
視斜角入射X線回折法による高分子相界面の構造評価 |
中原 重樹((株)三井化学分析センター) |
T20 |
極小角X線散乱法による高分子繊維の構造に関する研究 |
村瀬 浩貴((株)東洋紡総合研究所) |
T21 |
X線CTによるコンクリート微細空隙の観察 |
人見 尚((株)大林組) |
T22 |
放射光による高品位蛍石の評価 |
野間 敬(キヤノン(株)) |
T23 |
屈折コントラスト法による電池部材の観察 |
中村 元宣(住友電気工業(株)) |
T24 |
放射光による金属材料のイメージング観察 |
中井 善一(神戸大学) |
T25 |
レーザパルスを照射した材料の非破壊残留応力分布測定 |
内藤 英樹((株)東芝) |
T26 |
時間分解X線回折による溶接金属急冷凝固組織のin-situ観察 |
米村 光治(住友金属工業(株)) |
T27 |
微小角入射X線散乱による鉄不働態皮膜の原子動径分布解析【口頭発表あり】 |
山下 正人(兵庫県立大学) |
S1 |
円偏光X線生成とXMCD測定法立上げ |
平井 康晴(日立製作所) |
S2 |
その場計測ガス供給排気設備の立ち上げ |
広瀬 美治(豊田中央研究所) |
S3 |
微小角入射X線散乱技術立上げと応用(4社共同実験) |
竹村 モモ子(東芝) |
S4 |
二次元XAFSによる価数分布評価(5社共同実験) |
山口 聡(豊田中央研究所) |
S5 |
SDDによるβ-FeOOHさび中極微量TiのXAFS測定・評価 |
世木 隆(神戸製鋼所) |
S6 |
in situ XRDによるSi添加鋼の2次スケール生成挙動の解析 |
稲葉 雅之(神戸製鋼所) |
S7 |
CoOx膜のXAFSにおける分析深さの推定 |
高川 悌二(三洋電機) |
S8 |
SiGe薄膜の結晶構造解析 |
後藤 隆(三洋電機) |
S9 |
X線散乱法およびXAFS法による非晶質材料の構造解析 |
斎藤 吉広(住友電気工業) |
S10 |
リチウムイオン二次電池オリビン系正極材料LixMnyFe1-yPO4のXAFS解析 |
工藤 喜弘(ソニー) |
S11 |
電気化学キャパシタ電極材料のin-situXAFS解析 |
田中 篤嗣(関西電力) |
S12 |
トポグラフィによる4H−SiCエピタキシャル膜中の結晶欠陥評価 |
鎌田 功穂(電力中央研究所) |
S13 |
XAFSによる希薄な溶液中セレンの酸化挙動の直接解析 |
秋保 広幸(電力中央研究所) |
S14 |
X線反射率法によるHfSiON膜の構造解析 |
山崎 英之(東芝) |
S15 |
ゴムメタルの引張負荷下偏光XAFS解析 |
野中 敬正(豊田中央研究所) |
S16 |
エアロゾルデポジション法による強誘電体膜の構造 |
中田 正文(日本電気) |
S17 |
X線マイクロビームを用いた電線絶縁材料の微小部分析とイメージング |
山崎 孝則(日立製作所) |
S18 |
電子部品グリーン調達用クロメート膜中6価クロムのXANES分析 |
野村 健二(富士通研究所) |
S19 |
CoPtCr-SiO2垂直磁気記録媒体高密度化のための放射光X線およびTEMによるナノ構造解析 |
久保木 孔之(富士電機アドバンストテクノロジー) |
S20 |
7素子SDDのXAFSへの応用 −検出器間の比較− |
尾崎 伸司(松下電器産業) |
S21 |
X線反射率によるCVDシリコン酸化膜の改質状態解析 |
河瀬 和雅(三菱電機) |
S22 |
吸収端近傍励起XRFによるHfSiOx超薄膜の評価 |
上原 康(三菱電機) |
H1 |
硬X線顕微干渉計による高空間分解能位相計測と位相CT |
小山 貴久 (兵庫県立大学) |
H2 |
半導体デバイス等の微小部X線回折測定 - 蛍光X線検出による精密位置決め |
中川 愛湖 (兵庫県立大学) |
H3 |
全反射ダブルスリット干渉計を用いた硬X線の空間コヒーレンス測定 |
辻 卓也 (兵庫県立大学) |
H4 |
高平行度マイクロビームによる次世代ウエーハの局所領域歪み評価 |
林 和樹 (兵庫県立大学) |
H5 |
新兵庫県ビームライン(BL08B2)の概要 |
桑本 滋生 (ひょうご科学技術協会) |
H6 |
兵庫県地域結集型共同研究事業の概要 |
落合 正晴 (ひょうご科学技術協会) |