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重点産業利用課題成果報告会
趣旨および概要

(財)高輝度光科学研究センター(JASRI)は産業界への貢献を大切な使命と考 え、重点産業利用課題の運営等を通じて産業界ユーザーに積極的な支援を行なってお ります。このたび、(財)高輝度光科学研究センター(JASRI)では、これまでに実 施された重点産業利用課題のうち2009B期に実施された課題と公開延期が終了した課 題を対象としたSPring-8重点産業利用課題成果報告会を以下のとおり開催いたしま す。

主催

(財)高輝度光科学研究センター(JASRI)

日時

2011年3月2日(水) 10:15〜15:15 ポスターセッション 12:00〜14:00

会場

コンベンションルームAP品川 10階 (東京都港区高輪3-25-23)
アクセス : http://www.ap-shinagawa.com/info/access.html


定員
 150名程度

参加費
 無料(配布資料あり)


申込方法
申込ページ
こちらからお申し込み下さい。

申込締切
2011年2月23日(水)       

プログラム
10:15-10:30 開会 挨拶
口頭発表 重点産業利用課題成果報告
10:30-11:00
木村 正雄
新日本製鐵 (株)
チタン表面酸化膜の構造解析
11:00-11:30
人見 尚
(株) 大林組 
載荷試験によるコンクリート中の破壊過程の直接観察
11:30-12:00
松野 信也
旭化成(株) 
水熱条件下でのトバモライト生成過程のその場X線回折
昼食/ポスター発表 同会場 20件
12:00-14:00 ポスター発表詳細(下記のとおり)
口頭発表 重点産業利用課題成果報告
14:00-14:30
畠山 琢次
京都大学 
鉄触媒クロスカップリング反応の開発と工業利用:in situ XAFS 測定による触媒活性種の同定および構造解析
14:30-15:00
田中 智子
江崎グリコ(株)
歯の初期う蝕病巣での脱灰・再石灰化における結晶学的解析
講評 15:00-15:10
15:10-15:15 閉会 挨拶

ポスター発表
No. 発表代表者 所属 題名 実験責任者
01 井上 敬文 (株)カネボウ化粧品 走査型X線微分位相顕微鏡を用いたブリーチ処理毛髪の構造解析 井上 敬文
02 國澤 直美 (株)資生堂 乾燥過程における角層細胞間脂質の構造変化の解析 國澤 直美
03 飯村 兼一 宇都宮大学 気/水界面の界面活性剤単分子膜のX線面内回折測定技術の開発 飯村 兼一
04 馬路 哲 住ベリサーチ(株) 微小角入射X線回折法によるポリイミド薄膜表面の構造評価 馬路 哲
05 吉本 則之 岩手大学 GIXDによる有機半導体超薄膜の成長初期過程の構造解明 吉本 則之
06 伊関 崇 (株)豊田中央研究所 DLC膜の構造解析 伊関 崇
07 大塚 伸夫 住友金属工業(株) X線侵入深さ制御X線回折測定技術を用いたFeスケル相変態深さ分布の評価によるスケ ル剥離抑制技術の検討 大塚 伸夫
08 小池 真司 日本電信電話(株) Ge K吸収端を用いたSP-μCTによるCO2レーザ融着ファイバ接続部の構造観測 小池 真司
09 高石 理一郎 (株)東芝 電圧印加ゲートスタック試料の硬X線光電子分光測定 高石 理一郎
10 小川 慎吾 (株)東レリサーチセンター 金属/Higher-k材料/高移動度チャネルにおける界面構造と電子状態の硬X線光電子分光法による評価 小川 慎吾
11 野崎 洋 (株)豊田中央研究所 XMCD-PEEMによる着磁状態のNd-Fe-B磁石の磁区観察 野崎 洋
12 野崎 洋 (株)豊田中央研究所 異常分散効果を利用したCu2ZnSnS4膜材料の粉末X線構造解析 野崎 洋
13 井手本 康 東京理科大学 Rietveld・MEM解析によるSrBi2Ta2O9系強誘電体の結晶・電子構造の検討 伊藤 孝憲
14 伊藤 孝憲 AGCセイミケミカル(株) 固体酸化物型燃料電池(SOFC)空気極材料のリートベルト、MEM解析による原子変位パラメータ、電子密度分布の温度依存性の考察 伊藤 孝憲
15 高崎 史進 第一稀元素化学工業(株) 水溶液中の炭酸ジルコニウムアンモニウムのXAFS構造解析究 高崎 史進
16 石原 顕光 横浜国立大学 In situ XAFSによる固体高分子形燃料電池に用いる非白金酸素還元触媒の局所構造解 石原 顕光
17 日隈 聡士 熊本大学 自動車排ガス浄化用AlPO4担持貴金属触媒のin-situ局所構造解析 池上 啓太
18 高木 由紀夫 エヌ・イーケムキャット(株) 高機能貴金属合金触媒の製品化に向けた複合サブナノ金属超微粒子合成法の開発と微細構造解析 高木 由紀夫
19 土井 修一 富士通(株) 軟X線フーリエ変換ホログラフィーによるナノマテリアルイメージング 淡路 直樹

         
問合せ先
SPring-8産業利用報告会 事務局
(財)高輝度光科学研究センター
中塚 栄子
Tel:0791-58-0924,Fax:0791-58-0830
e-mail : industry@spring8.or.jp