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第10回 SPring-8産業利用報告会
趣旨および概要

  (公財)高輝度光科学研究センター(JASRI)は産業の振興への貢献を大切な使命と考え、共用ビームラインを用いて産業界ユーザーに積極的な支援を行なっております。また、いくつかの専用ビームラインでも広範な産業利用が行なわれています。
 今年も、SPring-8での産業利用成果の発表を通じて、産業界における放射光の有効性を多くの方に知っていただくとともに、産業界ユーザーの相互交流を目的とする産業利用報告会を9月5・6日に兵庫県民会館で行います。
 本報告会は産業用専用ビームライン建設利用共同体(サンビーム)、兵庫県、豊田中央研究所、JASRIそれぞれの発表会(報告会)をジョイントして構成したもので、口頭発表・ポスター発表および技術交流会を行ないます。
 最近の産業利用状況・成果を知るのに絶好の機会ですので奮ってご参加ください。

主催

(公財)高輝度光科学研究センター(JASRI)
産業用専用ビームライン建設利用共同体(SUNBEAM CONSORTIUM)
兵庫県
(株)豊田中央研究所

共催

SPring-8利用推進協議会

協賛

フロンティアソフトマター開発専用ビームライン産学連合体

日時

2013年9月5日(木) 13:00〜17:30 技術交流会 17:40〜19:00
2013年9月6日(金) 9:00〜17:00

会場

兵庫県民会館(神戸市中央区下山手通4丁目16-3)
  口頭発表   : 9階 けんみんホール
  ポスター発表: 3階 303号室、304号室
  技術交流会 : 11階 パルテホール(兵庫県民会館内)
アクセス :兵庫県民会館 http://www.hyogo-arts.or.jp/arts/kenminmap.htm         

参加費
 無料(配布資料あり)予稿集等の資料は、当日受付で配布します。
 ※技術交流会参加費 2,000円

申込方法
8月28日(水)17時をもちまして、締め切りました。
参加希望の方につきましては industry@spring8.or.jpまで  ご連絡ください。

定員
 300名程度

注意事項

@兵庫県民会館内では禁煙となっておりますので、喫煙はご遠慮ください。
A飲食につきましては、館内レストラン、近郊に飲食街、コンビニ等がございますので、そちらをご利用ください。
B口頭発表・ポスター発表の各会場内は主催者許可者以外の写真撮影は厳禁とさせていただきます。
Cポスター発表会場にて無線LANがご利用いただけます。

問合せ先
SPring-8産業利用報告会 事務局
(公財)高輝度光科学研究センター 垣口 伸二、吉川 史津
Tel:0791-58-0987,Fax:0791-58-0988
e-mail : industry@spring8.or.jp

プログラム
9月5日(1日目)
セッション1:第11回ひょうごSPring-8賞表彰式(13:00-13:45)
13:00-13:06
坂田 誠
ひょうごSPring-8賞選定部会長
ひょうごSPring-8賞表彰式・授賞理由説明
13:06-13:15
井戸 敏三
ひょうごSPring-8賞実行委員会会長/兵庫県知事
ひょうごSPring-8賞表彰式・祝辞
13:15-13:30
飯原 順次
住友電気工業(株)
放射光利用によるタングステン高効率リサイクル技術の開発
13:30-13:45
産業用専用ビームライン建設利用共同体(サンビーム)
コンソーシアムによる放射光産業利用の活性化
休憩 13:45-13:55
セッション2:開会挨拶・特別講演(13:55-14:30)     司会・座長:山川 晃
13:55-14:00
土肥 義治
(公財)高輝度光科学研究センター 理事長
主催者代表挨拶
13:15-13:45
佐野 雄二
(株)東芝
SACLAによる金属材料の塑性変形挙動の実時間観察
セッション3:豊田中央研究所 成果報告会(14:30-15:10)
14:30-14:50
林 雄二郎
(株)豊田中央研究所
豊田ビームラインにおける3DXRD顕微鏡法の開発
14:50-15:10
松永 拓郎
(株)豊田中央研究所
結晶性高分子の階層構造が力学特性に及ぼす影響の解析
休憩 15:10-15:30
セッション4:サンビーム(産業用専用ビームライン建設利用共同体)研究発表会(15:30-17:30)
15:30-15:50
上原 康
三菱電機(株)
エポキシ共重合体の高次構造形成過程解析
15:50-16:10
青木 潤珠
日立マクセル(株)
リチウム電池正極材料における高電圧劣化モードでの構造解析
16:10-16:30
久保渕 啓
(株)日産アーク
In situ XASと第一原理計算によるリチウムイオン電池正極材料の反応解析
16:30-16:50
細井 慎
ソニー(株)
In系透明酸化物半導体のXAFS解析
16:50-17:10
米村 卓巳
住友電気工業(株)
斜出射XAFSによる半導体/絶縁被膜界面の状態評価手法の検討
技術交流会 17:40-19:00 11階 パルテホール(兵庫県民会館内)

9月6日(2日目)

セッション5:兵庫県成果報告会(9:00-11:00)     座長:前半 - 篭島 靖,後半 - 木下 博雄
9:00-9:05
太田 勲 
兵庫県立大学
兵庫県立大学副学長・産学連携機構長 挨拶
9:05-9:25
田沼 良平
電力中央研究所
X線3Dトポグラフィーによる4H-SiC基底面転位および貫通刃状転位の歪み場解析
9:25-9:45
鈴木 拓也
小島 優子
(株)三菱化学
  科学技術研究センター
時分割WAXSを用いたクロモニック色素のせん断誘起構造形成過程の評価
9:45-10:05
尾身 博雄
NTT物性科学基礎研究所
シリコン基板上での希土類添加薄膜の形成と発光特性-シリコンフォトニクス用光増幅器の広帯域化を目指して-
10:05-10:15
休憩(10分)
10:15-10:35
平岩 美央里
パナソニック(株)
放射光トポグラフによるGaN結晶中の転位挙動の評価
10:35-10:55
新部 正人
兵庫県立大学
NWXAFS法を用いたBN薄膜の成長過程の観測
ポスターコアT(11:10-12:30)(3階 303号室、304号室)
昼食 12:30-13:30
セッション6:JASRI共用ビームライン実施課題報告会(13:30-15:30)     座長:前半 - 佐野 則道,後半 - 本間 徹生
13:30-13:54
高松 成亮
東海ゴム工業(株)
ゴムの振動伝達特性に及ぼすフィラー凝集サイズの影響
13:54-14:18
佐藤 有二
横浜ゴム(株)
加硫中のゴムの発泡/消泡機構の解明
14:18-14:42
岩堀 禎浩
(株)村田製作所
X線回折による圧電体(1-x)(Na0.45K0.55)NbO3 + xCaTiO3の結晶構造解析
14:42-15:06
岸 浩史
ダイハツ工業(株)
白金を使用しない燃料電池カソード触媒のXAFSによるその場測定6
15:06-15:30
高谷 光
京都大学
レアメタルを用いない次世代型クロスカップリング反応の開発:
鉄ホスフィン錯体触媒反応における触媒活性種の溶液XAFS解析
ポスターコアU(15:40-17:00)(3階 303号室、304号室)
17:00 撤収解散

2013年9月6日(金)
   11:10-12:30(ポスターコアT)・・・奇数番号、15:40-17:00(ポスターコアU)・・・偶数番号

場所
    3階 303号室、304号室  ポスター配置場所はこちらからご覧ください

★詳細はこちらからご覧ください↓
  JASRI共用ビームライン実施課題 サンビーム 兵庫県
  豊田中央研究所 FSBL(フロンティアソフトマター) JASRI産業利用推進室
JASRI共用ビームライン実施課題 ポスター発表時間・場所へ
No. 発表代表者 所属 題名
J-01 宇高 義郎
是澤 亮
横浜国立大学 マイクロポーラス層付き固体高分子形燃料電池用新形式ガス拡散層内の酸素拡散と液水挙動の同時計測
J-02 嶺重 温
発表者:吉岡 秀樹
兵庫県立大学 極微量の遷移金属不純物が燃料電池電解質の化学的安定性に及ぼす影響
J-03 野崎 洋 (株)豊田中央研究所 化合物薄膜太陽電池における光吸収層/バッファ層界面の硬X線分光分析
J-04 菅野 了次
発表者:平山 雅章
東京工業大学 硬X線光電子分光法によるリチウム電池電極界面における電子構造解析
J-05 駒場 慎一
発表者:藪内 直明
東京理科大学 硬X線光電子分光法を用いたナトリウムイオン電池用合金系負極に生成する表面被膜に関する研究
J-06 秦野 正治 新日鐡住金ステンレス(株) レアメタル削減錫添加ステンレス鋼のHAXPESによる不働態皮膜解析
J-07 寺崎 秀紀 大阪大学 耐熱鋼再現溶接熱影響部におけるM23C6およびMXの固溶挙動のその場観察
J-08 足立 大樹 兵庫県立大学 引張変形中のIn-situ X線回折実験を用いたバルクナノアルミニウム中の転位増殖挙動の観察
J-09 中井 善一
発表者:塩澤 大輝
神戸大学 回折コントラストトモグラフィを用いた結晶マッピングおよび疲労損傷評価法の開発
J-10 堀内 悠 大阪府立大学 太陽光水素製造を目指した新規可視光応答型MOF光触媒の開発と局所構造解析
J-11 金田 清臣
発表者:水垣 共雄
大阪大学
 太陽エネルギー化学研究センター
グリセロールの高選択的水素化分解に向けた固定化金属触媒の開発
J-12 本郷 千鶴 神戸大学 バイオベースポリマー材料開発に向けた天然コラーゲン繊維の結晶弾性率評価
J-13 田中 智子 江崎グリコ (株) 放射光を利用した機能性食品の開発
J-14 飯村 兼一
発表者:豊田 彩
宇都宮大学 固/水界面における界面活性剤の吸着膜構造のX線反射率法によるその場評価
J-15 坂 貞徳 日本メナード化粧品(株) ジェミニ型界面活性剤を用いた有機変成ベントナイトの開発と化粧品への応用
J-16 原 滋郎 浜松ホトニクス(株) 高分子フォトニック結晶の構造解析
J-17 渡辺 剛 岩手大学 リアルタイム二次元X線回折法によるペンタセン、フッ素化ペンタセンmix相の形成過程の観察と結晶構造評価
J-18 小椋 厚志
発表者:勝又 隆晶
明治大学 絶縁膜/半導体界面におけるデバイス動作下HAXPESの構築
J-19 安野 聡 (株)コベルコ科研 XAFSに よるa-IGZO薄膜の局所構造解析
J-20 西本 哲朗
発表者:小林 幹弘
(株)ユメックス XAFSによるGd添加AlN薄膜の局所構造に及ぼすバッファー層の効果の解明
 
No. 発表代表者 所属 題名
S-01 本谷 宗 三菱電機(株) 微小角入射X線回折を用いたZnO薄膜の深さ方向結晶構造解析
S-02 上原 康 三菱電機(株) エポキシ共重合体の高次構造形成過程解析
S-03 淡路 直樹 (株)富士通研究所 臨界角一定制御XAFS測定技術
S-04 青木 潤珠 日立マクセル(株) リチウム電池正極材料における高電圧劣化モードでの構造解析
S-05 大園 洋史 パナソニック(株) リチウム過剰固溶体正極材料の充放電過程における反応機構解析
S-06 久保渕 啓 (株)日産アーク In situ XASと第一原理計算によるリチウムイオン電池正極材料の反応解析
S-07 高橋 伊久磨 日産自動車(株) リチウムイオン二次電池正極材料のXAFS解析
S-08 垣内 孝宏 日産自動車(株) Pt/Auコアシェル型触媒のin situ XAFS解析
S-09 吉田 泰弘 日亜化学工業(株) 放射光を用いたリチウムイオン二次電池正極材料サイクル劣化構造解析
S-10 吉成 篤史 日亜化学工業(株) LED高品質化に向けたAlNバッファ層の影響評価
S-11 高橋 直子 (株)豊田中央研究所 Cs→Pr系元素変換の検証実験
S-12 小坂 悟 (株)豊田中央研究所 リサイクルMg合金中における微量Clの蛍光X線分析
S-13 山口 聡 (株)豊田中央研究所 放射光トポグラフィによるSiCエピタキシャル膜中の転位の観察
S-14 沖 充浩 (株)東芝 ガラス中添加剤の価数評価
S-15 秋保 広幸 (一財)電力中央研究所 酸化反応を利用した水溶性セレンの分別定量法の開発
S-16 橋上 聖 関西電力(株) 高温還元雰囲気下におけるセリア系酸化物の局所構造の評価
S-17 細井 慎 ソニー(株) In系透明酸化物半導体のXAFS解析
S-18 越谷 直樹 ソニー(株) 有機半導体薄膜のX線回折法による構造解析
S-19 米村 卓巳 住友電気工業(株) 斜出射XAFSによる半導体/絶縁被膜界面の状態評価手法の検討
S-20 稲葉 雅之 (株)神戸製鋼所 サンビームにおけるその場XAFS測定の取組み
S-21 日比野 真也 川崎重工業(株) 先進アルミ合金の加工・熱処理における結晶構造変化の評価
S-22 飯原 順次 回折装置SG CdTe検出器を用いた高エネルギーX線回折
S-23 巽 修平 大型設備立上げPj サンビーム大型設備導入
  〜硬X線光電子分光装置・多次元X線検出器
No. 発表代表者 所属 題名
H-01 放射光ナノテクセンター 兵庫県立大学産学連携機構 兵庫県ビームラインの現状
H-02 鶴田 宏樹 神戸大学連携創造本部
応用構造科学産学連携推進センター
放射光・計算科学を活用した革新的創薬研究のためのバリューネットワークの構築〜神戸大学応用構造科学産学連携推進センターの目指すところ〜
H-03 首藤 靖幸 住友ベークライト(株) 小角X線散乱法と逆モンテカルロ法を用いた構造発色フィルムの三次元構造解析
H-04 尾身 博雄 NTT物性科学基礎研究所 シリコン基板上での希土類添加薄膜の形成と発光特性
-シリコンフォトニクス用光増幅器の広帯域化を目指して-
H-05 桐野 文良 東京藝術大学大学院美術研究科 陶磁器用Fe系釉薬の発色機構の解析
H-06 立石 純一郎 (株)アシックス X線CTによるポリマーフォームのセル構造観察
H-07 嶺重 温 兵庫県立大学大学院工学研究科 放射光マイクロビームを用いた高信頼性燃料電池電解質の開発
H-08 大江 裕彰 東洋ゴム工業(株) 放射光X線小角散乱によるゴム配向性の評価
H-09 田沼 良平 電力中央研究所 X線3Dトポグラフィーによる4H-SiC基底面転位および貫通刃状転位の歪み場解析
H-10 鈴木 拓也
小島 優子
(株)三菱化学
  科学技術研究センター
時分割WAXSを用いたクロモニック色素のせん断誘起構造形成過程の評価
H-11 小寺 賢 神戸大学大学院工学研究科 プライマー塗布によるポリプロピレン薄膜微結晶の配向変化に関する二次元X線回折評価
H-12 山本 友之 日本合成化学工業(株) SAXSによる一軸伸長ならびに緩和過程中のエマルション皮膜の構造変化に関する研究
H-13 平岩 美央里 パナソニック(株) 放射光トポグラフによるGaN結晶中の転位挙動の評価
H-14 今泉 公夫 旭化成(株) 高立体規則性ポリブタジエン系材料の構造と特性〜X線散乱解析による一軸伸長結晶化挙動の観察〜
H-15 小林 高揚 三菱重工業(株) 高温水中でNi基合金表面に形成される酸化物と溶存水素の相関解明のためのXAFS測定による考察
H-16 高橋 照央 (株)住化分析センター 兵庫県ビームラインを利用したリチウムイオン電池材料評価技術
H-17 春山 雄一 兵庫県立大学
高度産業科学技術研究所
放射光を用いたフッ素含有自己組織化膜の電子状態解析
H-18 渡邊 健夫 兵庫県立大学
高度産業科学技術研究所
SR吸収分光を用いたEUVレジストの反応解析
H-19 山口 明啓 兵庫県立大学
高度産業科学技術研究所
放射光微細加工技術を用いた空中映像生成用ミラーアレイデバイスの作製
H-20 原田 哲男 兵庫県立大学
高度産業科学技術研究所
マイクロコヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡を用いた30nm以下の多層膜内欠陥の検出
H-21 宮本 修治 兵庫県立大学
高度産業科学技術研究所
ニュースバル先端研究基盤共用・プラットフォーム形成事業
H-22 尾上 貴洋 兵庫県立大学大学院
物質理学研究科
高平行度X線マイクロビームによる光導波路用Ge結晶の結晶性評価
H-23 作花 賢治 兵庫県立大学大学院
物質理学研究科
PMMAレジストにおける硬X線集光ビームリソグラフィの特性評価
H-24 硲 和輝 兵庫県立大学大学院
物質理学研究科
兵庫県ビームライン 高分解能XAFSの構築と応用
H-25 廣友 稔樹 兵庫県立大学大学院
物質理学研究科
硬X線多層膜ゾーンプレートの作製及び評価
H-26 新部 正人 兵庫県立大学大学院
高度産業科学技術研究所
NEXAFS法を用いたBN薄膜の成長過程の観測
豊田中央研究所 ポスター発表時間・場所へ
No. 発表代表者 所属 題名
T-01 堂前 和彦 (株)豊田中央研究所 豊田ビームラインの現状
T-02 長井 康貴 (株)豊田中央研究所 Cu/CeO2触媒によるNO還元反応
-雰囲気変動下におけるCu-CeO2相互作用−
T-03 畑中 達也 (株)豊田中央研究所 燃料電池用電極触媒の高精度過渡応答解析
T-04 野中 敬正 (株)豊田中央研究所 リチウムイオン電池のin situ XAFS・XRD解析
T-05 木村 英彦 (株)豊田中央研究所 特異応力場における局所応力ひずみの分布計測
T-06 青木 良文 (株)豊田中央研究所 ゴムの架橋および劣化反応解析
T-07 光岡 拓哉 (株)豊田中央研究所 還元鉄の金属吸着機構の時分割XAFS解析
T-08 磯村 典武 (株)豊田中央研究所 15keV対応HAXPES装置を用いた深さ方向評価法の検討
T-09 太田 慎吾 (株)豊田中央研究所 酸化物全固体電池の電極内反応分布
T-10 野崎 洋 (株)豊田中央研究所 XAFSによるTi系イオン伝導材料の局所構造解析
FSBL(フロンティアソフトマター) ポスター発表時間・場所へ
No. 発表代表者 所属 題名
F-01 坂本 直紀 旭化成(株) in situ SAXS/WAXSによる液晶エポキシ構造解析
F-02 山川 秀充 キヤノン(株) 小角・超小角X線散乱法を用いた微粒子の分散状態の解析
JASRI産業利用推進室 ポスター発表時間・場所へ
No. 発表代表者 所属 題名
I-01 産業利用推進室1 JASRI BL19B2産業利用Iの現状
I-02 産業利用推進室2 JASRI BL14B2における高温および低温XAFS測定の現状
I-03 産業利用推進室3 JASRI JASRI産業利用VビームラインBL46XUの現状
I-04 産業利用推進室4 JASRI Construction of HAXPES data base at BL46XU
I-05 産業利用推進室5 JASRI 白色X線マイクロビームによる多結晶金属材料内局所応力分布測定技術の開発とその利用事例
I-06 産業利用推進室6 JASRI 産業利用分野課題募集案内
I-07 産業利用推進室6 JASRI 光ビームプラットフォームについて


申込方法
8月29日(水)17時をもちまして、締め切りました。
参加希望の方につきましては industry@spring8.or.jpまで  ご連絡ください。

定員
300名程度

問合せ先
SPring-8産業利用報告会 事務局
(公財)高輝度光科学研究センター 垣口 伸二、吉川 史津
Tel:0791-58-0949,Fax:0791-58-0830
e-mail : industry@spring8.or.jp