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超LSI材料の高精度評価 −超薄膜・新材料への挑戦−
テキスト 題目 PDF file 作成者
LSI開発の現状と今後の課題 2.50MB 小椋 厚志
(NEC シリコンシステム研究所)
放射光を用いたX線反射率法によるナノ構造解析
 −測定・解析法の基礎と応用(1) −
8.21MB 桜井 健次
(独立行政法人物質材料研究機構)
放射光を用いたX線反射率法によるナノ構造解析
 −測定・解析法の基礎と応用(2) −
2.85MB 桜井 健次
(独立行政法人物質材料研究機構)
放射光を用いたX線反射率法によるナノ構造解析
 −測定・解析法の基礎と応用(3) −
3.49MB 桜井 健次
(独立行政法人物質材料研究機構)
放射光X線回折による強誘電体キャパシタ構造の評価 565KB 木村 滋
(財団法人高輝度光科学研究センター)
X線マイクロビームの材料評価への応用 388KB 平井 康晴
(株式会社日立製作所 基礎研究所)
蛍光X線およびXAFSによる高誘電体薄膜評価 284KB 竹村 モモ子
(株式会社東芝 研究開発センター)
反射X線小角散乱法による薄膜中のナノ粒子・空孔サイズ評価 3.78MB 表 和彦(理学電機株式会社)
軟X線光電子分光によるゲート絶縁膜評価 751KB 小林 啓介
(財団法人高輝度光科学研究センター)

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